等离子体的性质在 40 kHz、400 KHz 微波和 13.56 MHz 射频下存在许多差异。
但是，在某些应用中可以使用所有这些频率。
一般来说，在低频下，电子和离子都在等离子体介质中发生位移。离子具有负电荷或正电荷，离子的质量远高于电子的质量。
- 在低频下，有充足的机会移动离子和电子。
- 在更高的频率下，离子移动的机会就越少。
- 允许等离子体密度在高频下增加。
- 射频频率下的等离子体密度通常高于低频 （LF） 的等离子体密度。
- 此外，由于质量高的离子的加速，样品和产品表面的溅射现象或腔室壁引起的污染在 LF 频率中较高。导致更多的热负荷传递到样品上，因此 LF 加速颗粒以高速率碰撞。
高频是在产品或样品表面进行化学相互作用的最佳选择。由于产生离子和自由基的电子，产生等离子体。
在这种情况下，离子的运动性很小，它们没有破坏性影响，并且在这些条件下，产品或样品表面有大量的离子和自由基，它们准备进行化学反应。
此外，随着频率的增加，内部偏置等其他参数也会降低。
随着频率的增加（朝向微波），等离子体从体积均匀等离子体变为表面等离子体（由于穿透深度限制）。
和其他差异…
关键领域：
- 一个或两个气体输入选项氩气、氧气、氮气、用于氢气裂解的合成气体。
- 流量计或质量流量控制器
- 三种频率可供选择。（如果在构建阶段规划，RF 可以升级）
- 加热至 350 °C 的样品
应用
可选的蒸汽输送入口可以将用途扩展到液体前驱体，并且耐
腐蚀工作增加了应用范围，涵盖材料处理，包括：
- 等离子清洗
• 等离子体表面活化以提高粘附力
• 功能性等离子涂层
• 等离子体蚀刻
• PDMS 和微流体设备
• PEEK 和其他工程聚合物
•聚四氟乙烯
•五金
•陶瓷
• 玻璃和光学设备
选件和附件
| 排 | 系统参数 | 型号 M2V03VT-（系统选项） | ||||||||
| m2v03VT | m2v03VT | m2v03VT | m2v03VT | m2v03VT | m2v03VT | m2v03VT | m2v03VT | |||
| -一个 | -乙 | -C | -D | -E | -F | -G | -H | |||
| 1 | 腔体 125mm 直径 x 240mm | Pyrex 腔室 | ||||||||
| 石英室 | ||||||||||
| 2 | 等离子发生器 | 40KHZ | ||||||||
| 400 KHZ 等离子体 | ||||||||||
| 发电机 | ||||||||||
| 射频 13.56MHz | ||||||||||
| 3 | 气体流量控制 | 2 个针阀 | ||||||||
| 氩 + O 2 （2 MFC） 200SCCM | ||||||||||
| 气体流量监测器 | 转子流量计 | |||||||||
| MFC | ||||||||||
| 4 | 控制– | 钥匙– | ||||||||
| 监测 | 卷 | |||||||||
| 和数字显示 | ||||||||||
| 图形触摸屏 | ||||||||||
| 6 | 真空计 | 皮拉尼耐腐蚀 | ||||||||
| 7 | 样品架 | 钢 | ||||||||
| 耐热玻璃 | ||||||||||
| 石英 | ||||||||||
| 8 | 真空泵 | 6 m3/hr 2 级旋转 | 不包括 | |||||||
| 油雾过滤器 | 不包括 | |||||||||
基本规格
M2V03 规格：
| 参数 | Value – 选项 |
| 室 |
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| 等离子发生器 |
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| 输入气体 |
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| 控制和监控 |
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| 血浆生成 |
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| 真空泵 |
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| 真空计 | 耐腐蚀皮拉尼真空计 |
| 箱 |
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| 主输入功率 |
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