DST1-300 具有最小的台式占地面积之一，可为高分辨率 SEM 和 TEM 样品制备提供直流和射频溅射
DST1-300 系列提供
以下版本可满足大多数实验室应用。
DST1-300 系列
单磁控管、DC、RF、样品偏压、样品加热、样品旋转。
还提供 4 英寸磁控管选项。
DST1-300 洁净真空室
DST1-L 至 DST3：真空室为圆柱形耐热玻璃，外径为 300 mm，高度为 200 mm （DST1-4） / 外径为 170 mm x 高度为 140 mm
（DST1-2）。配有一个内部安装的涡轮分子泵，由隔膜泵提供支持，该隔膜泵可引入清洁真空，而不会产生普通扩散泵通常存在的油污染。
特征
- 高真空涡轮分子泵。
- 隔膜前级泵。
- 全系列真空计。
- 高精度石英晶体厚度监测器。
- 直观的触摸屏，用于控制涂层过程和快速数据输入
- 用户友好型软件，可通过网络进行更新。
- 控制涂层速率以获得更精细的晶粒结构。
- 手动定时和厚度溅射。
- 能够记录和绘制涂层参数图表。
- 自动或半自动控制。
- 配备电子快门。
- 易于更换的样品台（旋转台为标准）。
- 两年保修。
规格
- 极限真空度：小于 2×10-5 托。
- 控制溅射速率以获得更细的晶粒结构。
- 自动控制溅射功率，不受压力影响。
- 精密质量流量计 （MFC） 用于精细控制真空压力
- 能够记录和绘制涂层参数图。
- 通过 USB 端口将曲线和沉积工艺数据传输到 PC。
- 实用程序：220V- 50HZ- 16A。
- 运输重量 （DST1-3）：46 千克
应用DST1-L
DST1-L， Turbo – 泵浦台式溅射镀膜机：
DST1-L 型大腔室单磁控管水冷台式溅射镀膜机是 Vac Coat 的大型镀膜系统，具有单独的控制架，能够镀膜半导体、电介质和金属（氧化和非氧化）。在快速循环时间内形成具有细晶粒尺寸的均匀薄膜。配备单个磁控管阴极，阴极直径为 2-4 英寸，具体取决于要求，可提供射频、样品加热升级
应用DST2
DST2， Turbo – 泵浦台式双溅射镀膜机：
大腔室 Duel 磁控管阴极，水冷式，非常适合镀膜直径达 15 cm 的大型试样，或类似直径的多个较小试样。无限的溅射时间使其适用于厚层的沉积。该系统配备 800 W 直流电源、300 W 射频电源（可选）和匹配盒。该系统可以在不同的表面上沉积各种材料，用于薄膜应用，如微纳米电子和SEM样品制备
应用DST3
DST3： Turbo – 泵浦台式三溅射镀膜机：
大腔室 DST3 3 2“ 磁控管阴极，水冷式，非常适合镀膜直径达 15 cm 的大型试样，或类似直径的多个较小试样。无限的溅射时间使其适用于厚层的沉积。该系统配备 800 W 直流电源、300 W 射频电源（可选）和匹配盒。该系统可以在不同的表面上沉积各种材料，用于薄膜应用，如微纳米电子和SEM样品制备
选项和附件
DST 型台式溅射镀膜机具有流动选项和附件：
- 行星样品旋转
- 纤维碳蒸发
- 线材蒸发
- 船用蒸发
- 衬底直流偏置电压 （DST1-3）。
- 基板加热
- 用于氧化物溅射的 RF
- 基板加热器 500c （DST1-4）。
- 300W 射频溅射 （DST1-4）。
- 石英晶体。
- 备用玻璃。
- 溅射靶材
