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DST3-T 型三靶分子泵多真空镀膜系统，是一款将热蒸发仪与溅射镀膜机集成于一体的紧凑型台式设备。该高真空系统适用于多种材料的镀膜沉积。三磁控靶台式溅射镀膜机可在蒸发镀膜与溅射镀膜工况之间轻松切换（不可同时运行）。

DST3-T 配备大腔体（直径 300 毫米）以及三个 2 英寸直径水冷阴极，适用于长时间溅射镀膜。这款台式磁控溅射镀膜仪搭载射频及直流电源，可对半导体、电介质以及金属（氧化性金属与贵金属）靶材进行溅射镀膜。

搭载射频电源的 DST3-T 型溅射镀膜系统配备自动可调匹配箱，可最大程度降低射频溅射过程中的反射功率。DST3-T 这款机型可选配多种功能配置，用以提升镀膜层与基底的附着力并优化膜层结构，例如可加装 500 摄氏度加热器，在镀膜沉积过程中对基底进行加热；也可向基底施加 300 伏直流偏置电压。

根据阴极类型，DST3-T 分为两种型号：

・DST3 – TA（倾斜阴极型）：

DST3-TA 配备三个具有共同焦点的倾斜阴极。该溅射镀膜系统可同时或独立对两个或三个（可选）靶材进行溅射，分别实现合金制备或多层膜沉积。该型号可适配的最大基片尺寸为 3 英寸。

DST3-T 热蒸发设备

DST3-T 配备大电流电源及低压（电阻式）热蒸发平台，适用于各类热蒸发工艺应用。该溅射镀膜系统可对多种材料在基底上进行可控热蒸发沉积。同一款热源支架可搭载舟式、篮式、螺旋式等多种类型的热蒸发源。

DST3-T 设备特性

・配备直观触摸屏，可控制镀膜工艺并快速录入数据

・软件操作简易，支持在线网络升级

・可选择半自动 / 全自动定时或定厚度镀膜工艺

・自动模式下溅射工艺可重复运行且支持程序设定

・可通过触摸屏面板调节直流 / 射频 / 大电流沉积参数（选配）

・自动记录镀膜参数并生成参数变化曲线图

・阴极自动选择功能

・用于导电及非导电靶材沉积的射频电源与匹配箱
・等离子清洗机
・300 伏直流基底偏压电源
・软件可控、可编程控温的 500 摄氏度基底加热炉