这些溅射源是为满足尖端研发设施和生产设置的需求而定制的，每次都能提供可靠性和精度。
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直流溅射
也称为直流二极管溅射，它是最基本的溅射类型。电离的氩阳离子通过使用负偏置电压加速向阴极移动。当氩气与阴极（放置目标材料的位置）碰撞时，来自目标源的物质被喷射出来，随后沉积在基板上。
射频溅射
它非常适合用于电绝缘或介电目标材料或基板，例如陶瓷。它允许使用比直流氩气低得多的氩气压力（1-15 mTorr vs 100 mTorr），这反过来又降低了气体杂质和腔室中的浓度，同时由于气体碰撞减少，还改善了沉积的视线
磁控溅
这种溅射特性通过将离子和电子集中在阴极上方的受限区域，大大提高了溅射速率。通过使用磁场将电子捕获在靶材附近，氩气的电离大大增加，同时还将气压进一步降低到 0.5 mTorr，从而进一步改善沉积的视线。
上述特性提高了沉积速率，减少了涂层的杂质，并允许在较低的基材温度下进行沉积。这种类型的溅射可以与 DC 或 RF 电源结合使用。
特征
- 宽均匀的侵蚀区域导致稳定的作，最小的分布和均匀性/速率变化贯穿整个目标生命周期。
- 主动等离子体放电在几乎整个目标表面保持目标清洁并减少导致电弧的绝缘膜生长。
- 增加所需定期维护频率的外部歧管和其他等离子干扰硬件是不必要的。
- 提供 2 英寸直径的目标。
- 内部和法兰安装配置。
- 可用于 DC、脉冲 DC、RF 模式。
- 70-90 W t% 目标利用率
- 在低压和温度下完全随机计量的介电材料。
- 由于广泛的侵蚀区域和高效的冷却，提高了20%的比率。
机械规格表
| 型 | 头戴式 | 目标 Diam | 目标厚度 | 磁性材料 | 尺寸 A | 尺寸 B | 尺寸 C | 尺寸 E | 尺寸 D |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| GT02 系列 | 轴的 | 1.0″ （25.4 毫米） | 2 毫米 | 是的 | 41.4 毫米 | 44.5 毫米 | 80 毫米 | 110 毫米 | 180 毫米 |
| GT20 | 轴的 | 1.0″ （25.4 毫米） | 2 毫米 | 是的 | 41.4 毫米 | 44.4 毫米 | 80 毫米 | 110 毫米 | 110 毫米 |
技术规格
| 标题 | GT02 系列 | GT20 |
|---|---|---|
| 直径 | 2.0 英寸（50.8 毫米） | 2.0 英寸（50.8 毫米） |
| 厚度 | 非磁性目标高达 1/4 英寸;最大 1/16 英寸，用于磁性目标 | 非磁性目标高达 1/4 英寸;最大 1/16 英寸，用于磁性目标 |
| 利用 | 最高 70% | 最高 70% |
| 等离子体源 | 直流（最大）250 W | 直流（最大）250 W |
| RF（最大）300 W | RF（最大）300 W | |
| 水冷 （必需） | 流速要求：1/2 GPM，过滤 | 流速要求：1/2 GPM，过滤 |
| 进水温度： <20 C | 进水温度： <20 C | |
| 水钩：0.25“ 外径管。 | 水钩：0.25“ 外径管。 | |
| 请告知我们您的冷水机的管尺寸，我们可以为您预先安装配件，但需额外付费。 | 请告知我们您的冷水机的管尺寸，我们可以为您预先安装配件，但需额外付费。 | |
| 水连接： | 0.25 英寸气动管 | 0.25 英寸气动管 |
| 电气连接器： | 标准 N 型（DC 和 RF） | 标准 N 型（DC 和 RF） |
| 保证 | 一年有限，终身支持 | 一年有限，终身支持 |
| 带馈入装置的真空法兰（可选） | 可根据要求提供带高真空馈入装置的 6“ CF 法兰，但需额外付费。溅射头可以通过快速断开器轻松安装在 6 英寸 CF 真空法兰上。溅射枪的高度位置可以在真空室内手动调整。 | 可根据要求提供带高真空馈入装置的 6“ CF 法兰，但需额外付费。溅射头可以通过快速断开器轻松安装在 6 英寸 CF 真空法兰上。溅射枪的高度位置可以在真空室内手动调整。 |
| 净重 | 3.5 磅 | 5.5 磅 |
