脉冲激光沉积技术可实现高效的非热烧蚀，并保持靶材的化学计量。通过应用这种方法，它可以沉积氮化物、氧化物、超晶格、聚合物和复合材料等材料。
触摸屏控制
脉冲激光沉积系统 PLD-T 配备 7 英寸彩色触摸屏和全自动控制和数据输入，即使是没有经验的用户也可以作。真空、电流和沉积信息可以在触摸屏上以数字数据或曲线的形式进行观察。最近 300 种涂层的信息可以保存在历史页面中。
目标纵器
PLD 配备了一个多目标机械手，其中包括三个直径为 2 厘米的目标。目标为标准尺寸，我们所有的目标纵器都是电动的，包括目标旋转。
PLD-T
热蒸发源
（舟/篮/盘管）
脉冲激光沉积系统可配备三个独立的热阻热蒸发源。蒸发源支架的良好设计不会使污染物从源材料转移到其他材料。源架的长度可在 5~10 cm 范围内调节，满足客户要求。
特征
- 转速可调的目标机械手
- 3 个热源和特殊的馈入件
- 用于实时厚度测量的石英晶体监测系统（精度为 1 nm）
- 直观的触摸屏，用于控制涂层过程和快速数据输入
- 等离子清洗
- 用户友好型软件，可通过网络更新
- 配备旋转样品架
- 配备电子快门
- 配备机动船选择
- 500 °C 基板加热器
- 两年保修
规格
- 高真空涡轮分子泵
- 隔膜前级泵
- 全系列真空测量仪
- 5 KW 大电流电源
- 精密质量流量计 （MFC）
- 能够记录和绘制涂层参数图表
- 通过 USB 端口将曲线和沉积过程数据传输到 PC
- 实用程序：220V-240V，50/60HZ，16A
- 盒子尺寸：50 厘米 x 60 厘米宽 x 47 厘米深
- 装运重量： 70 公斤
选件和附件
PLD-T 具有以下选件和附件：
- 热蒸发源（舟/篮/盘管）
- 500 °C 基板加热器
- 蒸发源材料
- 石英晶体传感器
- 密封垫片
