英国VacTechniche,等离子系统和耗材,等离子清洗器/反应系统,反应性离子蚀刻：RIE,用于微加工，以实现高精度各向异性材料的去除
反应性离子蚀刻：RIE
反应离子蚀刻
（理惠）VacTechniche 的设备
反应性离子蚀刻（RIE）是一种先进的基于等离子体的蚀刻技术，用于微加工，以实现高精度、各向异性材料的去除。VacTechniche 的 RIE 系统专为半导体、电介质和聚合物材料的高性能蚀刻而设计，使其成为微电子、MEMS 和纳米技术等行业的理想选择。
MRIE03VT-A 台式 RIE 系统，由“Vac Techniche Ltd”制造，具有以下规格组合，是一款独特的产品。
腔室尺寸：
注入气体数量：4 MFC，可在不同的工艺设计中发挥更大的作用。
Ar：100 SCCM
N2：50 SCCM
O2：100 SCCM
SF6：50SCCM。
反应性离子蚀刻：RIE
具有多达 40 个不同序列的工艺设计能力。 能够保存 5 个不同的流程参数。（食谱） 高达 300W、13.56MHz 射频等离子体源，具有快速稳定的自动阻抗匹配。 设计紧凑，尺寸小。 系统外部尺寸： 腔室内部尺寸。 样品输入和最大尺寸 冷却样品架，用于…..样品自。。。。。
具有多达 40 个不同序列的工艺设计能力。
能够保存 5 个不同的流程参数。（食谱）
高达 300W、13.56MHz 射频等离子体源，具有快速稳定的自动阻抗匹配。
设计紧凑，尺寸小。
系统外部尺寸：
腔室内部尺寸。
样品输入和最大尺寸
冷却样品架，用于…..样品 自。。。。。
应用：
🔹 半导体器件制造
🔹 MEMS（微机电系统）制造
🔹 光子学和光电元件加工
🔹 介电材料结构（例如 SiO₂、Si₃N₄）
🔹 聚合物和有机材料图
