英国VacTechniche DST3-T 溅射镀膜与热蒸发一体机
DST3-T 是一款三靶材涡轮分子泵多真空镀膜系统，将热蒸发和溅射镀膜结合在一个紧凑的台式系统中。该高真空系统适用于多种材料的沉积。三磁控靶材台式溅射镀膜机可以轻松在蒸发和溅射条件之间切换（不能同时进行）。DST3-T 配备了一个大腔室（直径300毫米）和三个2英寸直径的水冷阴极，适合长时间溅射沉积。该磁控台式溅射镀膜机配备了射频和直流电源，可以溅射半导体、电介质和金属（氧化性和贵金属）靶材。
DST3-T溅射镀膜系统配备的射频电源供应器装有一个自动可调匹配箱，旨在最小化射频溅射过程中的反射功率。该型号DST3-T包含多项可选功能，以增强涂层薄膜与基底的附着力并改善薄膜结构，例如可安装一个500°C的加热器在沉积过程中加热基底，或者可以向基底施加300V的直流偏压。
根据阴极的状态，DST3-T 提供两种型号：
DST3-TA（倾斜阴极）：
DST3-TA 配备三个倾斜阴极，它们共有一个共同的焦点。该溅射镀膜系统可以同时或独立地从两个或三个（可选）靶材进行溅射，分别形成合金或多层沉积。此型号中基底的最大尺寸可达3英寸。
DST3-TS（直列式阴极）：
DST3-TS 配备三个直列式2英寸水冷阴极，适合溅射直径最大达20厘米的单个大型样品或多个小型样品。
DST3-T 的应用领域
- 金属、半导体和电介质薄膜沉积
- 纳米与微电子领域
- 太阳能电池应用
- 共溅射工艺
- 玻璃溅射镀膜
- 光学元件镀膜
- 薄膜传感器制备
- 磁性薄膜器件制造
- 用于扫描电子显微镜（SEM）和场发射扫描电子显微镜（FE-SEM）样品制备的精细结构沉积
DST3-T 凭借其多功能性和高精度，广泛应用于科研和工业领域，满足多种薄膜沉积需求。
Vac Coat Ltd. 是一家领先的高品质定制真空镀膜系统设计和制造商，专注于物理气相沉积（PVD）技术。
Vac Coat 的真空镀膜系统涵盖多种类型：
- 低/高真空溅射镀膜机（如 DSR1 和 DST1）：通常用于电子显微镜成像中的样品制备。
- 高真空溅射镀膜/热蒸发一体机（如 DST2-TG 或 DST3-T）：配备多种可选功能（如等离子清洗机），主要用于研究领域的薄膜沉积。
