VacTechniche,等离子清洗,灰化系统,台式反应腔,PCA M2V03VT-C,VacTechniche的等离子清洗/灰化系统（台式反应腔）可用于去除原子污染、氧化物以及亲水/疏水等离子处理。
PCA M2V03VT-C
等离子清洗/灰化系统
M2V03VT-C 等离子系统及配件
在40 kHz、400 kHz、微波和13.56 MHz RF频率下，等离子体的性质存在许多差异。然而，在某些应用中，可能会使用所有这些频率。
低频等离子体
物理操作
高频是执行产品或样品表面化学相互作用的最佳选择。由于电子产生离子和自由基，从而产生等离子体。在这种情况下，离子的运动性较小，它们不会产生破坏性影响，并且在这些条件下，产品或样品表面有大量离子和自由基准备进行化学反应。此外，随着频率的增加，内部偏置等其他参数也会降低。
随着频率的增加（向微波方向发展），等离子体从体积均匀等离子体变为表面等离子体（由于穿透深度的限制）。还有其他差异……
关键领域：
- 一种或两种气体输入选项：氩气、氧气、氮气、氢气裂解的合成气体。
- 流量计或质量流量控制器。
- 三种频率可供选择（如果在构建阶段计划，RF可升级）。
- 样品加热至350摄氏度。
PCA M2V03VT-C
更多详情
应用
- 等离子清洗
- 等离子表面活化以改善附着力
- 功能性等离子涂层
- 等离子蚀刻
- PDMS和微流体设备
- PEEK及其他工程聚合物
- PTFE
- 金属
- 陶瓷
- 玻璃和光学设备
选项和配件
- 可选的蒸汽输送入口可扩展至液体前驱体的使用。
- 耐腐蚀工作扩大了应用范围，涵盖材料处理，包括：
- 等离子清洗
- 等离子表面活化
- 功能性等离子涂层
- 等离子蚀刻
基本规格
- 可选蒸汽输送入口：可扩展至液体前驱体的使用。
- 耐腐蚀工作：扩大应用范围，涵盖多种材料处理。
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