VacTechniche,RF等离子体电源,RF-MN5000W,RF等离子体控制,VacTechniche,RF等离子体电源,RF-MN5000W,用于RF等离子体控制,Vac Techniche的5000W (25KV) 自动匹配网络用于RF等离子体控制，可将等离子体腔室的RF生成阻抗调整为50欧姆，以实现从发生器到腔室的最大功率传输。
RF等离子体电源
5000W (25KV) 自动匹配网络
Vac Techniche的自动匹配网络在三种独立模式下运行：
- 自动模式：持续补偿等离子体腔室的阻抗变化。
- 手动模式：允许操作员在过程中手动调整匹配电容值。
- 预设模式：操作员可以在开始时自动调整电容值接近完全匹配条件，从而更快完成匹配。
通过控制器系统的前面板和VGA连接，可以调整各种参数并观察其性能。
该设备的特殊应用包括等离子体生成，用于沉积的不同阶段（清洗、蚀刻、溅射等）以及纳米技术领域的微电子元件制造。
特点与功能
- 自动匹配宽范围阻抗
- 所有参数的控制/显示
- 完整的远程控制能力
- 三种操作模式：手动、自动和预设
- 电容位置和电容限制警报的数字显示
- 手动模式下使用控制面板中的数字旋转编码器调整电容位置
- 可安装在机架上的控制箱
- 匹配箱可单独安装在腔室附近
- 备用电容组和电感更换标签，以增加负载阻抗范围
- 足够的屏蔽，防止辐射和电磁干扰（EMI）噪声，并采取必要措施保护操作员健康
ATN25BF匹配单元技术规格
| 参数 | 规格 |
|---|---|
| 电源 | 220 V (200-240 V), 50 Hz (50-60 Hz) |
| 最大输入功率 | 5000 W（标准负载，如溅射枪），电压限制为25KV，电流限制为120 A |
| 频率 | 13.56 MHz |
| 带宽 | 5% |
| 匹配网络控制连接器 | VGA |
| 工作模式 | 手动、自动、预设 |
| 匹配速度 | 根据负载条件，匹配时间为5至30秒，跟踪匹配点时小于5秒 |
| 控制器特性 | – 电容到达起点或终点时激活警报 – 电容位置调整分为快速和精确两步 – 电容位置数字显示 – LED显示模式 – 预设模式下可微调电容位置 – 可调控制环路增益，以实现最佳速度和稳定性 |
| 电路拓扑 | L网络 |
| 电容器的电压-电流-容量 | 25KV-120A-500PF |
| 输出阻抗 | 宽范围，适用于标准溅射阴极 |
| 工作温度 | 10-40°C |
| 冷却方式 | 风冷（风扇）和水冷 |
| 输入连接器 | 7/16 |
| 输出连接器 | 直接连接 |
| 尺寸（长宽高） | 184825 cm |
| 重量 | 约12 Kg |
| 箱体材料 | 铝 |
控制器规格
| 参数 | 规格 |
|---|---|
| 匹配网络控制连接器 | VGA |
| 电容调整 | 三种模式：手动、自动、预设 |
| 显示与输出 | – 在线显示电容位置的面板 – 电容到达起点或终点时自动停用设备 – 模拟输出显示阻抗域和相位 |
| 开关 | 设备控制箱前面板上的按钮 |
| 设备组成 | 阻抗匹配箱和控制系统显示小箱 |
| 尺寸（长宽高） | 4.42223 cm |
| 重量 | 1 Kg |
| 箱体材料 | 铝 |
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