VacTechniche,RF匹配网络,RF-MN Control

VacTechniche,RF匹配网络,RF-MN Control,Vac Techniche的RF匹配网络具有自动/手动调谐与控制功能,专为与输出阻抗为50欧姆的RF发生器兼容而设计和制造。

RF匹配网络

自动/手动调谐与控制

 

等离子体腔室、等离子体炬或其他需要应用RF功率的负载通常具有不同于50欧姆的等效阻抗,并且通常伴随电感和电容部分。因此,需要一个系统将等效阻抗转换为发生器阻抗水平,以防止发生器传输的功率反射,保护RF发生器,最大化负载的功率输入,使过程可重复,并在等离子体形成前后提供腔室中所需的场强。

阻抗匹配网络(也称为匹配盒)执行此任务。在正常情况下,匹配网络是为3至35欧姆的阻抗范围构建的。然而,凭借Vac Techniche的技术知识和实践经验,可以为各种负载类型提供匹配网络,如溅射枪、RIE、电容-电感耦合负载以及复杂负载(如螺旋离子源、具有E和H模式的大气ICP、大气等离子体炬以及具有非标准或非常规阻抗范围的负载)。

阻抗匹配盒具有手动和自动功能。

自动阻抗匹配网络

Vac Techniche制造的自动阻抗匹配网络(ATN-xx-BF)为RF发生器在PECVD、HDCVD、溅射和灰化等应用中提供适应性。这些网络使用直流驱动电机执行匹配。Vac Techniche的自动匹配系统将等离子体腔室的阻抗调整为50欧姆,以使最大发生器功率到达腔室。

这些网络在三种独立模式下运行:

  1. 自动模式:持续补偿等离子体腔室的阻抗变化。
  2. 手动模式:允许操作员在过程中手动调整匹配电容值。
  3. 预设模式:操作员可以在开始时自动调整电容值接近完全匹配条件,从而更快完成匹配。

通过控制器系统的前面板和VGA连接,可以调整各种参数并观察其性能。

Vac Techniche ATN-xx-BF阻抗匹配网络的一个重要特点是,对于标准负载,其形成等离子体并完成完全匹配的时间非常短(约2秒)。

匹配网络功率范围:300W、1000W、2000W、3000W、5000W

Vac Techniche手动阻抗匹配网络

Vac Techniche制造的手动阻抗匹配网络(MTC-xx-BF)为RF发生器在PECVD、HDCVD、溅射和灰化等应用中提供匹配。这些网络通过系统前面板上的分级旋钮执行匹配。Vac Techniche的手动匹配系统将等离子体腔室的阻抗调整为50欧姆,以使最大发生器功率到达腔室。

MTC-xx-BF型号的一些优点包括适中的价格、宽范围的阻抗匹配能力,甚至支持定制阻抗范围。此外,其结构中的齿轮箱提高了调整精度。

特点与功能

  • 自动匹配宽范围阻抗
  • 所有参数的控制/显示
  • 完整的远程控制能力
  • 三种操作模式:手动、自动和预设
  • 电容位置和电容限制警报的数字显示
  • 手动模式下使用控制面板中的数字旋转编码器调整电容位置
  • 可安装在机架上的控制箱
  • 匹配箱可单独安装在腔室附近
  • 备用电容组和电感更换标签,以增加负载阻抗范围
  • 足够的屏蔽,防止辐射和电磁干扰(EMI)噪声,并采取必要措施保护操作员健康

应用领域

  • 半导体生产
  • 物理和化学等离子体沉积
  • 等离子体蚀刻
  • 各种等离子体处理技术
  • 加热和熔化废弃电介质
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