VacTechniche,多功能脉冲激光沉积设备,PLD,VAC COAT沉积系统

VacTechniche,多功能脉冲激光沉积设备,PLD,VAC COAT沉积系统,多功能脉冲激光沉积与热蒸发系统 – PLD-T 是一款高真空薄膜沉积系统，能够通过脉冲激光沉积和热蒸发技术（非同时进行）沉积不同的材料。它可以将复杂的材料和晶体结构沉积到基底上，且设置非常简便。

脉冲激光沉积技术能够实现高效的非热升华，并保持靶材的化学计量比。通过应用这种方法，可以沉积如氮化物、氧化物、超晶格、聚合物和复合材料等材料。PLD-T 配备三重热源，也可以通过热蒸发沉积薄膜。

PLD-T 物理气相沉积系统是一款多技术精密薄膜涂层设备，能够让用户在光学、电子、太阳能电池制造等多个领域进行最先进的研究项目。

特点

硬件

• 配备内置涡轮分子泵的高真空系统
• 两级旋片式真空泵（膜片泵或螺旋泵）
• 高电流直流电源，适用于不同材料的热蒸发
• 石英晶体监测系统，实时厚度测量（1纳米精度）
• 通过精密质量流量计（MFC）控制反应气体注入
• 全范围真空计
• 可调旋转、升降、倾斜的旋转样品架（适用于3英寸样品架）
• 可调旋转速度的靶材操控器
• 三个热源和特殊通道
• 配备电子快门（用于热蒸发配置）
• 配备电动船舶选择
• 两年保修期
• VacCoat 产品在全球范围内均受到公共责任保险和产品责任保险的保障，确保因 Vac Coat 系统造成的财产损失或人身伤害。

自动化

• 直观的触摸屏控制涂层过程并快速输入数据
• 用户友好的软件，可通过网络更新
• 半自动定时或厚度涂层过程（可选）
• 通过触摸屏面板调整沉积参数（可选）
• 记录和绘制涂层参数图表

可选设施

• 500°C 可编程基板加热器，带软件控制
• 靶材操控器
• PLD 沉积系统配备多靶操控器，包含三个标准直径为 2 cm 的靶材，所有靶材操控器均为电动，能够在沉积过程中自动选择和旋转靶材。

热蒸发

脉冲激光沉积系统可以配备三个独立的耐热热蒸发源。不同类型的热蒸发源（如船、篮、线圈）可以安装在热源支架上，用于在基板上受控地热蒸发广泛的材料。高电流电源和低电压（电阻式）热蒸发平台适用于各种热蒸发应用。热蒸发配置配有水冷馈电装置，并配有温度传感器。

热源支架 脉冲激光沉积系统可以配备三个独立的耐热热蒸发源。良好的蒸发源支架设计不会将源材料的污染物转移到其他材料上。源支架的长度可以在 5~10 cm 范围内调整，以满足用户的需求。

清洁真空 PLD-T 配备直径 300 mm，高度 200 mm 的 SST 真空腔体。PLD-T 配备内置涡轮分子泵，并由 6 m3/h 两级旋片泵（可选）提供支持。它能够提供无油污染的清洁真空，避免了普通扩散泵中通常存在的油污染。

触摸屏控制 脉冲激光沉积系统 PLD-T 配备 7 英寸彩色触摸屏面板，使用用户友好的软件来控制和调整沉积过程数据。真空和涂层过程信息可以通过触摸屏上的数字数据或曲线查看，最后 300 次涂层数据会保存在历史页面中。

脉冲激光沉积与热蒸发系统的规格

• 涡轮分子泵，提供不同的抽气速度（可选）：
  • 抽气速度 90 l/s、250 l/s、350 l/s
  • 极限压力：8×10^-6 Torr、3×10^-6 Torr、8×10^-7 Torr
  • 无限制沉积时间，无需中断真空
  • 记录并绘制涂层参数图表
  • 通过 USB 端口将沉积过程曲线和数据传输到 PC
  • 2 kW 高电流电源
  • 水冷高电流电气馈电装置
  • 电源要求：220 V – 110 V，50/60 Hz
  • 外形尺寸：500 mm 高 × 600 mm 宽 × 470 mm 深
  • 重量：50 kg（泵、仪器箱）

应用

• 金属、半导体和介电薄膜
• 纳米与微电子
• 太阳能电池应用
• 光学元件涂层
• 薄膜传感器
• 磁性薄膜器件

选项和配件 PLD-T 提供以下选项和配件：

• 热蒸发源（船/篮/线圈）
• 500°C 基板加热器
• 热蒸发源材料
• 石英晶体传感器
• 密封垫圈