VAC COAT,多功能真空镀膜机,DST3-T,VacTechniche真空镀膜机,DST3-T 是一款三靶涡轮分子泵多功能真空镀膜系统，结合了热蒸发器和溅射涂层机，具有紧凑的桌面设计。该高真空系统适用于多种材料的沉积。三靶磁控溅射涂层机能够在蒸发和溅射模式之间轻松切换（但不能同时进行）。
DST3-T 配备了一个大尺寸的腔体（300 mm 直径），并且有三个 2 英寸的水冷靶，可以长期进行溅射沉积。磁控溅射涂层机配有 RF 和 DC 电源，可用于溅射半导体、介电材料以及金属（氧化物和贵金属）靶材。
如何操作 DST3-T 溅射涂层机和热蒸发器？
DST3-T 溅射涂层系统配有 RF 电源，并配备了自动调节匹配盒，最大限度地减少了 RF 溅射过程中的反射功率。该型号 DST3-T 具有一些可选功能，以提高涂层膜的附着力和改善膜结构，如可安装一个 500 ˚C 的加热器，在沉积过程中加热基板，或可以对基板施加 300 V 的 DC 偏压电压。
DST3-T 产品尺寸
- DST3-T 产品尺寸
- DST3 Rack 尺寸
根据靶的状态，DST3-T 有两种型号：
DST3-TA（倾斜靶）：
DST3-TA 配备了三个倾斜的靶，具有共同的焦点。溅射涂层系统可以同时或独立地从两个或三个（可选）靶进行溅射，以分别形成合金或多层沉积。该型号可处理最大 3 英寸的基板。
- DST3-TA 倾斜无等离子体
- DST3-TA 倾斜有等离子体 | 溅射涂层机
- DST3 三靶倾斜
DST3-TS（直靶）：
DST3-TS 配备三个 2 英寸水冷靶，适用于对直径最大可达 20 cm 的单个大样品进行溅射，或者多个小样品。
- DST3 直靶
- DST3 溅射涂层机流程图
DST3-T 的热蒸发功能
DST3-T 配备了高电流电源和低电压（电阻式）热蒸发平台，适用于多种热蒸发应用。该溅射涂层系统允许在基板上进行多种材料的受控热蒸发。不同类型的热蒸发源（舟形源、篮形源和线圈）可以安装在单一的热源支架上。
DST3-T 的特点
硬件：
- 高真空级别，内置涡轮分子泵
- 二级旋转叶片背驰泵（膜片泵和螺旋泵）
- 适用于金属、半导体和介电材料的 DC 和 RF（可选）电源
- 三个 2 英寸水冷的倾斜磁控靶，适用于生产合金薄膜（DST3-TA）和多层沉积
- 大样品夹持台（8 英寸，DST3-TS 型）
- 专为大基板均匀沉积设计的靶掩模（DST3-TS）
- 两个固定和可移动的石英晶体监测系统，用于实时厚度测量（1 纳米精度）
- 通过两个精密质量流量计（MFC）进行气体注入控制，可精细控制真空压力和氩气流量或反应性溅射气体
- 全范围真空计
- 靶选择电机
- 样品旋转、高度和倾斜可调（适用于 3 英寸样品夹持器）
- 三个手动或电子（可选）快门
- 一个热源支架
- 两年保修
- CE 合规
- Vac Coat 产品在全球范围内由公共及产品责任保险覆盖，以防止因 Vac Coat 系统造成的财产损失或人身伤害。
自动化：
- 直观触摸屏控制涂层过程和快速数据输入
- 用户友好型软件，通过网络可更新
- 半自动定时或厚度涂层过程（可选）
- 可重复和可编程的溅射过程自动模式
- 触摸屏面板上可调节 DC/RF/高电流沉积参数（可选）
- 记录并绘制涂层参数图表
- 自动靶选择
- 可选设施：
- RF 电源和匹配盒，用于沉积导电和非导电靶
- 等离子清洁器
- 300 V DC 基板偏压电压
- 500 ˚C 可编程基板加热器，带软件控制
DST3-T 的清洁真空系统
DST3-T 的真空腔体为圆柱形 Pyrex 材质，外径 300 mm，高度 200 mm（可调至 250 mm）。DST3-T 配备了内置的涡轮分子泵，并由 6 m3/h 的二级旋转叶片泵（可选）背驰提供支持。它引入了一种无油污染的清洁真空，不同于普通的扩散泵所产生的油污染。
DST3-T 样品夹持器
样品夹持台有两种尺寸，分别为显微镜载玻片、3 英寸（适用于 DST3-TA 和 DST3-TS）和 8 英寸（适用于 DST3-TS），但用户可以根据需要定制尺寸。在小样品夹持器上创建了多个 S 型夹具，以便在旋转过程中简单固定小样品。
等离子处理（可选 Plasma Cleaner）
三靶溅射涂层机 DST3-T 可选配等离子清洁器。等离子处理/清洁是通过使用一种称为等离子体的电离气体去除基板表面的有机物或对其进行功能化的过程。等离子处理可以修改基板表面的润湿性，提高其亲水性或疏水性，以有效进行后续的沉积。同时，在薄膜沉积之前对基板应用等离子体处理，可以去除表面污染物（如碳基物质和氧化物），并改善基板与后续层之间的附着力。
DST3-T 规格
- 涡轮分子泵（可选不同泵速）：
- 泵速：90 l/s、250 l/s、350 l/s
- 极限压力：8×10-6 Torr、3×10-6 Torr、8×10-7 Torr
- 每个靶的独立溅射控制速率，用于产生细粒结构
- 不断开真空的无限沉积时间
- 最大 6 mm 靶厚度（包括背板）
- 自动控制沉积功率，无关压力
- 自动控制靶温度，保护磁铁的使用寿命
- 350 l/s 涡轮泵的电子节流阀
- 记录并绘制涂层参数图表
- 沉积过程曲线和数据可通过 USB 端口传输至 PC
- 0-1200 V，0-500 mA DC 电源
- 300 W RF 电源，自动匹配盒（可选）
- 0-24 V，0-100 A 高电流电源
- 水冷高电流电气引入装置
- 工具：220 V – 110 V，50/60 Hz
- 最大功耗：3 kW
- 尺寸：770 H x 600 W x 800 D mm（不含机架）
- 重量：160 kg（泵、机架和仪器箱）
可选配件
- 石英晶体传感器
- 备用玻璃腔体
- 溅射靶
- 密封垫圈
- 热源材料
- 300 V DC 偏压电压
- 等离子清洁器
- 500 ˚C 基板加热
DST3-T的应用：
https://www.bihec.com/vactechniche-desktop-sputter-coater/VAC COAT,多功能真空镀膜机,DST3-T,VacTechniche真空镀膜机/
https://zhuanlan.zhihu.com/p/24521156492
