VacTechniche,涡轮分子泵溅射镀膜机,DST1-300,VAC COAT镀膜机,DST1-300 是具有最小桌面占地面积的溅射设备，提供直流（DC）和射频（RF）溅射，适用于高分辨率扫描电子显微镜（SEM）和透射电子显微镜（TEM）样品制备。
DST1-300 涡轮分子泵溅射镀膜仪
桌面溅射系统
Vac Techniche 真空镀膜系统
DST1-300 系列提供以下版本，以满足大多数实验室应用需求。
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DST1-300 系列提供以下版本：
桌面溅射系统
以下版本满足大多数实验室应用需求：
- DST1-300：单靶磁控溅射，直流电（DC）、射频（RF）、样品偏压、样品加热、样品旋转。
- DST2-A：两个靶磁控溅射，倾斜中心焦点，直流电（DC）、射频（RF）、样品偏压、样品加热、样品旋转。
- DST2-TA：两个靶磁控溅射，倾斜中心焦点，直流电（DC）、射频（RF）、样品偏压、样品加热、样品旋转，带有单一热蒸发设施用于碳、线材或船式蒸发。
- DST1-S：两个靶磁控溅射，直线配置，直流电（DC）、射频（RF）、样品偏压、样品加热、样品旋转，带有单一热蒸发设施用于碳、线材或船式蒸发。
- DST2-TS：两个靶磁控溅射，直线配置，直流电（DC）、射频（RF）、样品偏压、样品加热、样品旋转，带有单一热蒸发设施用于碳、线材或船式蒸发。
- DST3-A：三个靶磁控溅射，倾斜中心焦点，直流电（DC）、射频（RF）、样品偏压、样品加热、样品旋转。
- DST3-TA：三个靶磁控溅射，倾斜中心焦点，直流电（DC）、射频（RF）、样品偏压、样品加热、样品旋转，带有单一热蒸发设施用于碳、线材或船式蒸发。
- DST3-S：三个靶磁控溅射，直线配置，直流电（DC）、射频（RF）、样品偏压、样品加热、样品旋转。
- DST3-TS：三个靶磁控溅射，直线配置，直流电（DC）、射频（RF）、样品偏压、样品加热、样品旋转，带有单一热蒸发设施用于碳、线材或船式蒸发。
- 也提供4英寸靶磁控溅射的选项。
DST1-300 涡轮分子泵溅射镀膜仪
更多详情
特点
- 高真空涡轮泵。
- 膜片泵辅助真空泵。
- 全范围真空计。
- 高精度石英晶体厚度监控仪。
- 直观触摸屏控制镀膜过程，快速数据输入。
- 用户友好的软件，可通过网络更新。
- 控制溅射速率，以获得更细小的晶粒结构。
- 手动、定时和厚度溅射功能。
- 能记录和绘制镀膜参数图表。
- 自动或半自动控制。
- 配备电子快门。
- 便捷的样品平台更换（标准配备旋转平台）。
- 两年保修期。
规格
- 最终真空：低于 2×10^-5 torr。
- 控制溅射速率，以获得更细小的晶粒结构。
- 自动控制溅射功率，不受压力影响。
- 精密质量流量计（MFC）精确控制真空压力。
- 能记录和绘制镀膜参数图表。
- 可通过 USB 端口将曲线和沉积过程数据传输至计算机。
- 电源：220V，50Hz，16A。
- 运输重量（DST1-3）：46kg
DST1-L、DST2、DST3 应用
- DST1-L：涡轮分子泵桌面单靶溅射镀膜仪：
DST1-L 型是Vac Coats 的大尺寸涂层系统，具有独立的控制架，能够涂覆半导体、绝缘体和金属（包括氧化和非氧化金属）。均匀的薄膜在快速周期时间内形成。配备单靶冷却磁控溅射，靶材直径可根据需求选择2-4英寸，提供射频和样品加热的升级选项。 - DST2：涡轮分子泵桌面双靶溅射镀膜仪：
DST2 配备双靶磁控溅射，水冷型，适合涂覆最大直径为 15 cm 的大样品，或多个较小样品。无限制的溅射时间适合沉积厚膜。系统配备 800W DC 电源，300W RF 电源（可选）及匹配箱。适用于不同表面上的薄膜应用，例如微纳电子学和 SEM 样品制备。 - DST3：涡轮分子泵桌面三靶溅射镀膜仪：
DST3 配备三个 2 英寸靶磁控溅射，水冷型，适合涂覆最大直径为 15 cm 的大样品，或多个较小样品。无限制的溅射时间适合沉积厚膜。系统配备 800W DC 电源，300W RF 电源（可选）及匹配箱。适用于不同表面上的薄膜应用，例如微纳电子学和 SEM 样品制备。
选项和配件
DST 系列桌面溅射镀膜仪具有以下选项和配件：
- 行星样品旋转
- 纤维碳蒸发
- 线材蒸发
- 船式蒸发
- 基底 DC 偏压（DST1-3）。
- 基底加热
- 用于氧化物溅射的射频（RF）
- 基底加热至 500°C（DST1-4）。
- 300W 射频溅射（DST1-4）。
- 石英晶体。
- 备用玻璃。
- 溅射靶材。
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