英国VacTechniche,真空镀膜系统,溅射镀膜机,PLD-T 脉冲激光器，沉积和热蒸发器
PLD-T 脉冲激光器
沉积和热蒸发器
SEM/TEM 样品制备 Vac Techniche
多功能脉冲激光沉积和热蒸发器系统 – PLD-T 是一种高真空薄膜沉积系统，可通过脉冲激光沉积和热蒸发技术沉积不同的材料。它可以将复杂材料和晶体结构沉积到基板上，只需很少的设置。
脉冲激光沉积技术可实现高效的非热烧蚀，并保持靶材的化学计量。通过应用这种方法，它可以沉积氮化物、氧化物、超晶格、聚合物和复合材料等材料。
PLD-T
热蒸发源
（舟/篮/盘管）
脉冲激光沉积系统可配备三个独立的热阻热蒸发源。蒸发源支架的良好设计不会使污染物从源材料转移到其他材料。源架的长度可在 5~10 cm 范围内调节，满足客户要求。
DCT-Desktop 碳素涂布机
转速可调的目标机械手
3 个热源和特殊的馈入件
用于实时厚度测量的石英晶体监测系统（精度为 1 nm）
直观的触摸屏，用于控制涂层过程和快速数据输入
等离子清洗
用户友好型软件，可通过网络更新
配备旋转样品架
配备电子快门
配备机动船选择
500 °C 基板加热器
两年保修