VacTechniche等离子清洗机PCA M2V03VT-C
VacTechniche系列等离子清洁器/灰化器（台式反应室）装置可以促进原子污染的去除、氧化物的去除以及亲水/疏水等离子体处理。
在40kHz、400KHz微波和13.56MHz射频下，等离子体的性质存在许多差异。
然而，在某些应用中可能使用所有这些频率。
一般来说，在低频时，电子和离子都会在等离子体介质中发生位移。离子带有负电荷或正电荷，离子的质量比电子的质量大得多。
- 在低频，有足够的机会移动离子和电子。
- 在更高的频率离子移动的机会就越少。
- 允许等离子体密度在高频下增加。
- 射频频率下的等离子体密度通常高于低频(LF)下的等离子体密度。
- 此外，由于具有高质量的离子的加速，样品和产品表面的溅射现象或由室壁引起的污染在LF频率中更高。导致更多的热负荷转移到样品上，这是因为加速的粒子以高速率碰撞。
高频是在产品或样品表面进行化学反应的最佳选择。由于电子产生离子和自由基，产生等离子体。
在这种情况下，离子的活动性很小，它们不具有破坏性，并且在这些条件下，在产品或样品的表面上有大量的离子和自由基，它们易于发生化学反应。
此外，随着频率的增加，内部偏置等其他参数也会降低。
随着频率的增加(朝向微波)，等离子体从体积均匀的等离子体变为表面等离子体(由于穿透深度的限制)。
和其他不同之处…
关键领域:
- 一种或两种气体输入选项氩气、氧气、氮气、氢气裂解用合成气。
- 流量计或质量流量控制器
- 三种频率可供选择。(如果在构建阶段计划，RF可以升级)
- 加热样品至350摄氏度
可选的蒸汽输送入口可以将使用范围扩展到液体前体，耐腐蚀工作增加了应用范围，涵盖了材料处理，包括：
- 等离子清洗
- 等离子体表面活化，提高附着力
- 功能性等离子涂层
- 等离子蚀刻
- PDMS和微流体设备
- PEEK和其他工程聚合物
- 聚四氟乙烯
- 金属
- 陶瓷
- 玻璃和光学设备