VacTechniche溅射镀膜机DST1-170、高真空磁控台式溅射镀膜机、光学和薄膜涂层金属溅射、磁控阴极、涡轮泵溅射镀膜机
涡轮泵式溅射镀膜机DST1-170
SEM涂层机|溅射涂层机
SEM/TEM样品制备真空技术
展示DST1-170，一款尖端的高真空磁控台式溅射镀膜机。这种紧凑的涂层系统因其多功能性而脱颖而出，能够有效地涂覆氧化性和非氧化性金属。DST1-170非常适合短期沉积需求，擅长快速生产具有细粒纹理的均匀薄膜。使用这种创新的解决方案，体验快速而精确的涂层循环。
vac-Coat DST1-170具有最小的台式占地面积之一，可为高分辨率SEM和TEM样品制备提供直流溅射。
台式溅射镀膜机|DSR1
台式磁控溅射镀膜机（DSR1）是一种高效工具，以在全自动系统中提供一致且高度可重复的结果而闻名。其符合人体工程学的设计和较小的占地面积使DSR1 SEM涂层系统易于使用。
由于自动过程控制，提供具有可重复结果的高分辨率清晰度涂层，便于设置和操作。
DST1-170也可用于光学和薄膜涂层的一般金属溅射。样品旋转是标准的，大多数应用都有倾斜和高度调节。Vac Techniche还提供一系列更大的涡轮泵溅射镀膜机，可选择1至3、2英寸磁控管、RF和DC、样品加热，该系列为DST1-300系列。
DST1-170也可用于光学和薄膜涂层的一般金属溅射。
DST1-170可以配备水冷阴极，使其适用于长时间沉积。
此模型中基板的最大尺寸为4英寸。
DST1可以配备水冷阴极，使其适用于长时间沉积。
此模型中基板的最大尺寸为4英寸。
DST1-170
脉冲碳纤维升级选项
真空室为圆柱形Pyrex。DST1-170配备了一个内部安装的90升/秒涡轮分子泵，由一个6立方米/小时的两级旋片泵提供支持。它引入了普通扩散泵通常存在的无油污染的清洁真空。
DST1-170蒸发
脉冲碳纤维升级选项
紧凑型台式真空溅射和碳涂层机专为小型腔室设计，具有执行脉冲碳纤维蒸发的强大能力。在这个过程中使用短脉冲可以在沉积过程中实现更精细的控制，并且作为一个显著的好处，可以大大减少通常与传统碳沉积方法相关的碎片的产生。这一进步不仅提高了涂层精度，而且大大减轻了碎片带来的挑战，使其成为各个领域研究人员和专业人员的宝贵工具。
DST1，涡轮泵台式溅射镀膜机：DST1型磁控台式溅射镀膜仪是一种紧凑的涂层系统，能够涂覆半导体、电介质和金属（氧化和非氧化）。在快速循环时间内形成具有细晶粒尺寸的均匀薄膜。DST1配备了一个磁控管阴极，阴极的直径可以根据需要为2-4英寸。
DST1-2:DST1-2配置为溅射涂布机和纤维碳涂布机（可选），在一个适用于扫描电子显微镜（SEM）样品制备的仪器中具有可互换的头。这种高真空镀膜机提供高质量的均匀薄膜，具有细小的晶粒尺寸，适用于需要高分辨率和高质量表征的样品，如FE-SEM、EDS/WDS、TEM和EBSD。DST1-2具有2英寸磁控阴极、带匹配盒的300 W射频电源（可选）、80 W开关直流电源和用于碳蒸发的大电流电源（可选的），可用于研究和不同的薄膜应用
DST1-4：带有4英寸磁控阴极的大型腔室DST1-4，水冷，非常适合涂覆直径高达15厘米的大型试样，或直径相似的多个较小试样。无限的溅射时间使其适用于厚层的沉积。该系统配备800 W直流电源、300 W射频电源（可选）和匹配盒。该系统可以在不同表面沉积各种材料，用于薄膜应用，如微纳电子和SEM样品制备
规格
极限真空度：小于2×10-6torr。
控制溅射速率以实现更细的晶粒结构。
自动控制溅射功率，不受压力影响。
用于精细控制真空压力的精密质量流量计（MFC）
能够记录和绘制涂层参数图。
通过USB端口将曲线和沉积过程数据传输到PC。
真空室为圆柱形Pyrex，外径300毫米，高200毫米（DST1-4）/170毫米外径x 140毫米高（DST1-2）。DST1配备了一个内部安装的涡轮分子泵，由一个隔膜泵支撑，该隔膜泵引入了清洁的真空，没有普通扩散泵中通常存在的油污染。
DST1-170涡轮泵溅射镀膜机是一种先进的仪器，用于各种科学和工业应用中的薄膜沉积。它利用涡轮分子泵技术实现高真空水平，使材料能够精确均匀地溅射到基板上。
DST1-170涡轮泵溅射镀膜机适用于各种基材，包括玻璃、硅、陶瓷、金属和聚合物。其多功能设计允许在导电和非导电基底上沉积薄膜，使其适用于各种研究和工业应用。
DST1-170涡轮泵溅射镀膜机支持各种材料的溅射，包括金属(如金、银、铂和铝)、氧化物、氮化物和半导体。用户可以根据具体的应用要求和实验参数选择所需的目标材料。
