脉冲激光二极管
沉积和热蒸发器
多功能脉冲激光沉积和热蒸发系统-PLD-T是一种高真空薄膜沉积系统，能够通过脉冲激光沉积和热蒸发技术沉积不同的材料。它可以在基底上沉积复杂的材料和晶体结构，只需很少的设置。
脉冲激光沉积技术导致有效的非热烧蚀，并保持靶材料的化学计量。通过应用这种方法，可以沉积诸如氮化物、氧化物、超晶格、聚合物和复合材料之类的材料。
PLD-T
热蒸发源
(船/篮子/线圈)
脉冲激光沉积系统可以配备三个独立的热阻热蒸发源。蒸发源支架的良好设计不会导致污染物从源材料转移到其他材料。源座长度可在5~10 cm范围内调节，满足客户要求。
特征
- 转速可调的目标机械手
- 3热源和特殊引线
- 石英晶体实时监控系统厚度测量(1纳米精度)
- 直观的触摸屏来控制涂层工艺和快速数据输入
- 等离子清洗
- 可通过网络更新的用户友好软件
- 配有旋转样品架
- 配有电子快门
- 装备到机动船选择
- 500°C衬底加热器
规范
- 高真空涡轮分子泵
- 隔膜前级泵
- 全量程真空测量仪
- 5 KW大电流电源
- 精密质量流量计(MFC)
- 能够记录和绘制涂层参数图
- 转移曲线和沉积过程通过USB端口向PC传输数据