VacTechniche Ltd PCA M2V03VT-C 等离子清洁器/灰化器(台式反应室)装置 VacTechniche进口代理
VacTechniche PCA M2V03VT-C 等离子清洁器/灰化器(台式反应室)装置
Plsama Cleaner Asher
VacTechniche系列等离子清洁器/灰化器(台式反应室)装置可促进原子污染的去除、氧化物的去除以及亲水/疏水等离子处理。
40千赫、400千赫微波和13.56兆赫射频的等离子体性质有许多不同。
然而，在某些应用中，可以使用所有这些频率。
低频等离子体
物理操作
高频是在产品或样品表面进行化学反应的最佳选择。由于电子产生离子和自由基，产生等离子体。
在这种情况下，离子的活动性很小，它们不具有破坏性，并且在这些条件下，在产品或样品的表面上有大量的离子和自由基，它们易于发生化学反应。
此外，随着频率的增加，内部偏置等其他参数也会降低。
随着频率的增加(朝向微波)，等离子体从体积均匀的等离子体变为表面等离子体(由于穿透深度的限制)。
和其他不同之处…
关键领域:
一种或两种气体输入选项氩气、氧气、氮气、氢气裂解用合成气。
流量计或质量流量控制器
三种频率可供选择。(如果在构建阶段计划，RF可以升级)
加热样品至350摄氏度
VacTechniche PCA M2V03VT-C 等离子清洁器/灰化器(台式反应室)装置应用：
可选的蒸汽输送入口可将用途扩展至液体前体和抗腐蚀工作扩大了应用范围，涵盖材料处理，包括:
等离子清洗
等离子体表面活化，提高附着力
功能性等离子涂层
等离子蚀刻
PDMS和微流体设备
PEEK和其他工程聚合物
聚四氟乙烯
金属
陶瓷
玻璃和光学设备
M2V03规格参数:
参数 | 价值–选项 |
室 |
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等离子发生器 |
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输入气体 |
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控制和监控 |
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等离子体生成 |
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真空泵 |
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真空计 | 耐腐蚀皮拉尼压力计 |
case |
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主输入功率 |
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