DST1-300涡轮泵溅射镀膜机
DST1-300具有最小的台式尺寸，为高分辨率SEM和TEM样品制备提供DC和RF溅射。
DST1-300系列提供以下型号，以满足大多数实验室应用。
DST1-300系列涡轮泵溅射镀膜机货号：
DST1-300
单磁控管，DC，射频，样品偏压，样品加热，样品旋转。
DST2-A
两个磁控管倾斜中心焦点，DC，RF样品偏置，样品加热，样品旋转。
DST2-TA
两个磁控管成角度的中心焦点，DC，RF样品偏压，样品加热，样品旋转，用于碳、丝或舟的单一热蒸发设备。
DST1-S
两个直磁控管、DC、RF样品偏压、样品加热、样品旋转、碳、丝或舟的单一热蒸发设备。
DST2-TS
两个直磁控管、DC、RF样品偏压、样品加热、样品旋转、碳、丝或舟的单一热蒸发设备。
DST3-A
三个磁控管倾斜中心焦点，DC，RF样品偏置，样品加热，样品旋转。
DST3-TA
三个磁控管倾斜中心焦点、DC、RF样品偏压、样品加热、样品旋转、碳、丝或舟的单一热蒸发设备。
DST3-S
三磁控管直，DC，射频样品偏压，样品加热，样品旋转。
DST3-TS
三个磁控管直管、DC、RF样品偏压、样品加热、样品旋转、碳、丝或舟的单次热蒸发
DST1-300清洁真空室
DST1-300 Clean Vacuum Chamber
DST1-L至DST3:真空室为圆柱形耐热玻璃，外径300毫米，高200毫米(DST1-4) /外径170毫米x 140毫米
H (DST1-2)。配有内部安装的涡轮分子泵，由隔膜泵支持，隔膜泵引入清洁的真空，没有通常出现在普通扩散泵中的油污染。
DST1-300涡轮泵溅射镀膜机特征：
高真空涡轮泵。
隔膜前级泵。
全量程真空计。
高精度石英晶体厚度监视器。
直观的触摸屏控制涂层过程和快速数据输入
用户友好的软件，可以通过网络更新。
控制涂层速率以获得更细的晶粒结构。
手动定时和厚度溅射。
能够记录和绘制涂层参数图。
自动或半自动控制。
配有电子快门。
易于更换的样品载物台(标准旋转载物台)。
两年保修。
DST1-300涡轮泵溅射镀膜机规格参数：
极限真空:小于2×10-5托。
控制溅射速率以获得更精细的晶粒结构。
独立于压力自动控制溅射功率。
精密质量流量计(MFC ),用于精确控制真空压力
能够记录和绘制涂层参数图。
通过USB端口将曲线和沉积过程数据传输到PC。
公用设施:220伏-50赫兹-16安。
装运重量(dst 1-3):46千克
DST1-300涡轮泵溅射镀膜机应用：
DST1-L，涡轮泵台式溅射镀膜机应用:
DST1-L型大型室单磁控管水冷台式溅射镀膜机是Vac Coats的大型镀膜系统，具有独立的控制架，能够镀覆半导体、电介质和金属(氧化和非氧化)。在快速循环时间内形成具有细晶粒尺寸的均匀薄膜。配备单个磁控管阴极，阴极的直径可以是2-4英寸，取决于要求、射频、样品加热升级
DST2，涡轮泵台式双溅射镀膜机:
水冷的大室双磁控管阴极非常适用于涂覆直径达15厘米的大样品，或多个直径相似的小样品。无限制的溅射时间使其适合于厚层沉积。系统配有800 W DC电源、300 W射频电源(可选)及配套箱。该系统可以在不同表面上沉积各种材料，用于薄膜应用，如微纳米电子和SEM样品制备
DST2，涡轮泵台式双溅射镀膜机:
水冷的大室双磁控管阴极非常适用于涂覆直径达15厘米的大样品，或多个直径相似的小样品。无限制的溅射时间使其适合于厚层沉积。系统配有800 W DC电源、300 W射频电源(可选)及配套箱。该系统可以在不同表面上沉积各种材料，用于薄膜应用，如微纳米电子和SEM样品制备
DST型台式溅射镀膜机有以下选项和附件:
行星样品旋转
碳纤维蒸发
金属丝蒸发
船蒸发
基板DC偏压(DST1-3)。
衬底加热
氧化物溅射用射频
基板加热器500c (DST1-4)。
300瓦射频溅射(DST1-4)。
石英晶体。
备用玻璃。
溅射靶。
