HCL 系列为全金属密封结构的电子束蒸发源，适用于超高真空（UHV）环境。提供 3 至 5 甚至更多坩埚配置，可实现最多 5 种以上材料的顺序蒸发沉积。标准安装方式为 12 英寸外径 CF 法兰，适用于大容量配置。对于 15cc 及以下坩埚容量，支持 10 英寸外径 CF 法兰安装。
该系列标配自动坩埚定位系统（Auto Indexer）及完整的机械、电气连接接口，适用于多材料高纯沉积工艺需求，如光学镀膜、半导体制程和科研实验。
主要特点：
超高真空兼容（UHV Compatible）：金属密封设计，基准极限压力达 2 × 10⁻¹¹ Torr
270° 电子束偏转角：灯丝完全隐藏，有效避免颗粒短路
灯丝更换方便：专用对准工具确保更换时对准精度，无需复杂调整
永磁主束定位系统：使用永磁进行主束位置控制，电磁线圈用于精细扫描与微调
强力冷却能力：高稳定性冷却结构，确保长时间运行
标准安装法兰尺寸：
| 坩埚容量 | 标准安装法兰 |
|---|---|
| ≤ 15cc | 10 英寸外径 CF 法兰 |
| > 15cc | 12 英寸外径 CF 法兰（默认） |
技术规格：
| 参数 | 数值 |
|---|---|
| 最大功率 | 15 kW |
| 发射电压 | -6 ~ -15 kV |
| 发射电流 | 0 ~ 1 A（连续可调） |
| 灯丝功率 | 700 W |
| 电子束偏转 | 270° |
| 电子束光斑尺寸 | ≈ 0.25 英寸直径 |
| 蒸发速率 | 1 克/分钟（@10kW），36,000 Å/min（铝@250mm距基材） |
| 冷却水需求 | 3 gpm，25 psi 差压 |
| 坩埚材质 | OFE 高纯铜 |
| 烘烤温度 | 230°C |
坩埚容量选项：
标准容量：7 cc、15 cc、25 cc、40 cc、75 cc
支持定制坩埚容量与结构（可根据项目需求定制）
