Thermionics Hanks HM2 Hydra™, Multiple Emitter, Multiple Crucible, Static e-Gun™ Hanks 系列多坩埚镀膜电子枪

汉克斯 HM2 Hydra™，多发射器、多坩埚、静态电子枪™

Hydra™静态系列通过高效利用空间，可实现复杂的共沉积工艺以及四种或更多不同材料的共蒸发。独特的模块化磁体设计能产生更高效的电子束。Hyper-Unimelt 200Hz 扫描技术可消除隧道效应和源材料喷溅。插入式发射器组件和扫描线圈组件使源的维护更简便。

灯丝对准轻松、电子准直更高效、灯丝变形极小且无电子尾流。是共蒸发的理想之选！

专利号：4,835,789；4,891,291；4,947,404

・可同时操作六种（6）不同材料（可根据要求提供额外的坩埚设计）
・全金属密封，完全兼容超高真空，测得的极限压力：2×10-11 托。
・Hydra™消除了相邻源之间的相互作用
・专利磁体设计允许源近距离放置，以实现均匀涂层和材料相互作用
・每个坩埚源均独立水冷，防止蒸汽积聚
・每个源坩埚都有独立的扫描线圈，确保每个源独立运行的完整性，消除相邻源的串扰干扰
・可拆卸的坩埚烟囱设计，便于清洁沉积堆积物
・发射器底板和坩埚采用水冷设计
・有 10kW 或 15kW 可选
・坩埚容积尺寸：10cc、15cc、40cc（可根据要求提供定制尺寸）
・270° 电子束偏转，灯丝外壳可隔离任何颗粒接触
・提供动态坩埚设计
・发射器组件易于拆卸设计
・热电子公司的 Hyper-Unimelt 扫描设计（可对低速率或高速率进行优化控制）
・提供水平和垂直源法兰安装设计
・消除电子束卷曲
・源包含超高真空额定扫描线圈（200Hz）
・无磁极片
・灯丝易于对准
・电子准直更高效
・灯丝变形极小
・无电子尾流
・全封闭发射器组件防止颗粒堆积
・每个源均独立水冷
・设计用于消除串扰干扰