Thermionics 的多坩埚电子束蒸发枪™系统为超高真空（UHV）应用中需要多材料源的工艺提供了无与伦比的灵活性。该系统采用高效的材料切换设计，最大化沉积的精确度，同时减少设备停机时间，特别适用于航空航天、光学及前沿科研等领域。
Hydra™ 静态系列通过高效利用空间，实现对四种及以上不同材料的复杂共沉积工艺及共蒸发。独特的模块化磁体设计使电子束效率更高。Hyper-Unimelt 200 Hz 扫描技术消除了电子束隧穿现象和材料喷溅。插拔式发射极组件和扫描线圈组件让维护更便捷。
易于调整灯丝位置，更高效的电子准直
灯丝变形极小，消除电子尾迹
非常适合共蒸发工艺
专利号： 4,835,789；4,891,291；4,947,404
主要特点
全金属密封，完全兼容超高真空（UHV），实测基础压力：2×10⁻¹¹ Torr
Hydra™ 设计消除了邻近源的相互干扰
专利磁体设计允许紧密排列多个蒸发源，实现均匀涂层及材料间良好互动
每个坩埚源独立水冷，防止蒸汽积聚
每个坩埚配备独立扫描线圈，确保各源独立运行，消除邻近源间串扰干扰
可拆卸坩埚烟囱设计，便于清理沉积物
水冷发射极底板及坩埚
提供10 kW和15 kW功率版本
坩埚容量选项：10 cc、15 cc、40 cc（可定制）
270°电子束偏转，灯丝保护罩防止颗粒污染
支持动态坩埚设计
发射极组件易拆卸设计
Thermionics Hyper-Unimelt 扫描设计（低速或高速沉积均实现最佳控制）
提供水平和垂直安装法兰设计
其他优点
配备UHV等级扫描线圈（200 Hz）
取消磁极片设计
易于灯丝调节
更高效的电子准直
最小化灯丝变形
消除电子尾迹
全封闭发射极组件，防止颗粒积聚
每个蒸发源独立水冷
设计上消除源间串扰
