模块化磁体
Hanks HM2旋转多腔电子枪设计采用了独特的模块化磁体概念。该设计使得设备结构非常紧凑。所有Hanks HM2系列的独特功能均被集成于此型号。
Hyper-Unimelt 扫描技术(低速或高速均可实现最佳控制)
高频扫描(0-200 Hz)为用户提供了极大灵活性,通过旋转X-Y扫描控制器的旋钮,即可调节电子束的尺寸以适应不同蒸发材料。该功能对光学涂层及其他对电子束尺寸要求较高的材料尤为重要,能实现从1-2 Å到极高沉积速率的最佳控制。
技术规格
参数 | 6 kW | 10 kW |
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输出功率 | 6 kW | 10 kW |
电子束电压 | 7.5 kV | 10 kV |
电子束电流 | 0 ~ 800 mA | 0 ~ 1.0 A |
坩埚容量 | 7 cc / 10 cc / 15 cc | 7 cc / 10 cc / 15 cc / 25 cc |
丝束 | 12 VAC,60A | 12 VAC,60A |
电子束偏转角度 | 270˚ | 270˚ |
蒸发速率 | 10 kW功率下约1克/分钟 | 10 kW功率下约1克/分钟 |
25厘米处沉积速率约3.6微米/分钟 | 25厘米处沉积速率约3.6微米/分钟 | |
电子束光斑尺寸 | 约0.25英寸圆形(可通过扫描控制器电调节定位) | 约0.25英寸圆形(可通过扫描控制器电调节定位) |
坩埚材质 | OFE铜 | OFE铜 |
烘烤温度 | 120°C(250°F) | 120°C(250°F) |
冷却水流量 | 3.0 gpm(过滤水)70 psi | 3.0 gpm(过滤水)70 psi |
最小冷却水管径 | 3/8英寸直径(6/10 kW型号) | 3/8英寸直径(6/10 kW型号) |
压力差 | 最小50 psi | 最小50 psi |
X和Y方向扫描 | Hyper-Unimelt扫描(0至超过200 Hz) | Hyper-Unimelt扫描(0至超过200 Hz) |