Thermionics 超高真空电子枪 Hanks HM2 旋转多腔电子束蒸发枪 Hyper-Unimelt 扫描技术 光学涂层

模块化磁体
Hanks HM2旋转多腔电子枪设计采用了独特的模块化磁体概念。该设计使得设备结构非常紧凑。所有Hanks HM2系列的独特功能均被集成于此型号。


Hyper-Unimelt 扫描技术(低速或高速均可实现最佳控制)
高频扫描(0-200 Hz)为用户提供了极大灵活性,通过旋转X-Y扫描控制器的旋钮,即可调节电子束的尺寸以适应不同蒸发材料。该功能对光学涂层及其他对电子束尺寸要求较高的材料尤为重要,能实现从1-2 Å到极高沉积速率的最佳控制。


技术规格

参数6 kW10 kW
输出功率6 kW10 kW
电子束电压7.5 kV10 kV
电子束电流0 ~ 800 mA0 ~ 1.0 A
坩埚容量7 cc / 10 cc / 15 cc7 cc / 10 cc / 15 cc / 25 cc
丝束12 VAC,60A12 VAC,60A
电子束偏转角度270˚270˚
蒸发速率10 kW功率下约1克/分钟10 kW功率下约1克/分钟
25厘米处沉积速率约3.6微米/分钟25厘米处沉积速率约3.6微米/分钟
电子束光斑尺寸约0.25英寸圆形(可通过扫描控制器电调节定位)约0.25英寸圆形(可通过扫描控制器电调节定位)
坩埚材质OFE铜OFE铜
烘烤温度120°C(250°F)120°C(250°F)
冷却水流量3.0 gpm(过滤水)70 psi3.0 gpm(过滤水)70 psi
最小冷却水管径3/8英寸直径(6/10 kW型号)3/8英寸直径(6/10 kW型号)
压力差最小50 psi最小50 psi
X和Y方向扫描Hyper-Unimelt扫描(0至超过200 Hz)Hyper-Unimelt扫描(0至超过200 Hz)


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