我们的 e-Gun™ 多坩埚系统 在需要多个材料源的超高真空（UHV）应用中提供无与伦比的多功能性。该系统专为高效材料切换而设计，能够最大限度地提升沉积精度、降低停机时间，广泛应用于 航空航天、光学和前沿科研 领域。
Thermionics 最新研发的 RCR 系列多坩埚旋转式 e-Gun™，具备 3 千瓦功率，专为科研应用设计。该系列提供增强的电子束稳定性、有效的 XY 扫描能力及完整坩埚覆盖范围，并可选配自动换位器实现自动定位（需单独购买）。
主要特点
真正的 XY 扫描，可覆盖整个坩埚区域
标配扫描线圈
束斑准直性能增强
插拔式发射器模块，便于维护更换
高稳定性冷却系统
交叉污染防护设计
坚固耐用的机械结构
可选自动换位器（Auto-Indexer）
工作原理优势（相对于单坩埚源）
材料容量大：若每个坩埚装填相同材料，可在一个真空周期内蒸发更多蒸发物。
支持多材料沉积：最多可在一个真空周期内依次蒸发 8 种不同材料，每个坩埚加热时，其他坩埚被磁极片遮蔽，避免交叉污染。
单束控点：仅一个坩埚在任意时刻被加热，电子束始终源自腔体内的固定点。
高真空兼容：采用金属密封与弹性体密封，基准真空度可达 2 × 10⁻⁹ Torr。
可更换坩埚轮：坩埚轮可从源头顶部拆卸，无需拆解整机，支持现场升级。
技术参数
安装配置选项
每台 e-Gun™ 提供三种标准安装方式：
