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电子枪

电子束枪或 e-Gun™ 是一种高精度仪器,利用热能或场发射机制发射电子,设计用于高真空 (HV) 和超高真空 (UHV) 应用。Thermionics 设计的 e-Gun™ 将耐用性、效率和可靠性相结合,以支持您最先进的应用,包括编码沉积材料加工。

利用电子束技术,各行各业能够实现精确的蒸发速率,从而实现半导体制造、航空航天和储能领域的创新。无论是用于研究还是工业生产,我们的技术都能以准确的方式实现创新。

我们的 e-Gun™ 多孔系统为需要多种材料源的 UHV 应用提供了无与伦比的多功能性。这些装置专为高效的材料标定而设计,可最大限度地提高沉积精度,同时减少停机时间,是航空航天、光学和高级研究应用的理想选择。

Hanks HM2 Hydra,Dynamic Source 电子枪™
Hanks HM2 Hydra,Dynamic Source 电子枪™

系列:Hanks

我们的高效 Hanks HM² e-Guns™ 提供获得专利和屡获殊荣的模块化磁束聚焦系统,具有增强的光束准直功能,可消除光束卷曲。

HM² e-Gun™ 的尺寸也是标准 e-Gun 的 2/3,磁效率提高了 350%

Hanks HM² 多口袋电子枪™

我们的高效 Hanks HM² e-Guns™ 提供获得专利和屡获殊荣的模块化磁束聚焦系统,具有增强的光束准直功能,可消除光束卷曲。我们创新的 Hanks HM² Hydra 设计由一 (1) 或两 (2) 个紧凑的坩埚和发射器阵列组成,它们彼此线性平移,可同时提供多达六种不同材料的共沉积。

Hanks HM2 Hydra,Dynamic Source 电子枪™
Hanks HM2 Hydra,Dynamic Source 电子枪™

特征:

  • 优化的发射器和扫频线圈组件
  • 消除极片 – 垂直安装的磁铁可产生更少的磁通量
  • 0-200 Hz 扫描,可重复,均匀蒸发,无“隧道”和源材料喷发
  • 精确稳定的蒸发速率,低至 1-2 A/sec
  • 比传统蒸发源小 35%,具有相同的体积、蒸发速率和功率容量
  • 采用 HV [2×10-9Torr] 和 UHV [2×10-11托尔]
  • 非常适合顺序蒸发或共蒸发
  • 提供电源、坩埚衬垫和其他附件

模型:

  • — 7 cc 至 156 cc 单坩埚 / 1 发射器 – 6-20 kW
  • 单转台— 7 cc 至 25 cc – 4 个坩埚 / 1 个发射器 – 6 & 10 kW
  • 双™— 10 cc, 15 cc, 40 cc – 2 个坩埚 / 2 个发射器 – 10 & 15 kW
  • 三合会™— 10 cc, 15 cc, 40 cc – 3 坩埚 / 3 发射器 – 6 & 10 kW
  • 四™— 10 cc, 15 cc, 40 cc – 4 坩埚 / 4 发射器 – 6 & 10 kW
  • Hydra-1™— 5 个坩埚 / 1-3 个发射器的单个阵列(有关详细信息,请参阅下面的 Hydra 描述)
  • Hydra-2™— 5 个坩埚 / 1-3 个发射器的双阵列,总共 10 个坩埚 / 2-6 个发射器(有关详细信息,请参阅下面的 Hydra 描述)

 

Hanks HM2 Hydra,Dynamic Source 电子枪™
Hanks HM2 Hydra,Dynamic Source 电子枪™

Hanks HM² Hydra 电子枪™

我们创新的 Hanks HM² Hydra 设计由一 (1) 或两 (2) 个紧凑的坩埚和发射器阵列组成,它们彼此线性平移,可同时提供多达六种不同材料的共沉积。

Hydra 配置对空间的有效利用允许在单个真空抽真空中实现六坩埚的四 (4) 种不同组合和多达四十二种两种金属组合的排列,用于共沉积。

Hydra 消除了相邻源的相互作用,无需复杂的光束方向和笨重的场分流组件。因此,共蒸发设计允许靠近源,以实现均匀的涂层和材料相互作用。此外,每个水源的单独水冷可防止蒸汽积聚,并为每个水源包含单独的清扫盘管,并促进每个水源的运行参数与相邻水源的完全独立性。

 

Hydra-1 & 2规格

特征10 kW 型号15 kW 型号
最大功率10 千瓦15 千瓦
坩埚体积10/15 毫升40 毫升
发射电压10 kV10 kV
发射电流0 至 1.0 A0 至 1.5 A
灯丝700 瓦700 瓦
电子束偏转220°220°
光束光斑尺寸.25“ 直径.25“ 直径
蒸发速率(铝)10 kW 时为 1 gm/min,25 cm 处为 3.6 微米15 kW 时为 1.5 gm/min,50,000 Å min
X 和 Y 扫描Hyper-Unimelt 扫频 (0-200 Hz)Hyper-Unimelt 扫描 (0-200 Hz)
3.0 gpm/坩埚,普通回油(高达 30 gpm)3.0 gpm/坩埚,普通回油(高达 30 gpm)
坩埚材料OFE 铜缆OFE 铜缆
烘烤温度230°C (446°F)230°C (446°F)
e-Gun 尺寸 – 单个阵列6.25 英寸 x 5.5 英寸 x 15 英寸6.25 英寸 x 5.75 英寸 x 15 英寸
e-Gun 尺寸 – 双精度阵列6.25 英寸 x 11 英寸 x 15 英寸6.25 英寸 x 11.5 英寸 x 15 英寸

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