Hanks HM² 多坩埚电子束蒸发枪™
Thermionics 的高效Hanks HM²电子枪™采用专利模块化磁体束聚焦系统，提升束流准直，消除束流卷曲。创新的Hanks HM² Hydra设计由一个或两个紧凑的坩埚与电子发射器阵列组成，阵列可相互线性移动，实现最多六种不同材料的同步共沉积。
HM²电子枪™的尺寸比传统电子枪小35%，但具有等同的容积、蒸发速率和功率容量。
主要特点
优化的发射器和扫描线圈组件
取消极靴，垂直安装磁体降低磁通量损失
0-200 Hz高频扫描，实现重复性好、均匀的蒸发，无“隧穿”效应及材料喷溅
精确稳定的蒸发速率，低至1-2 Å/秒
提供高真空（HV，2×10⁻⁹ Torr）和超高真空（UHV，2×10⁻¹¹ Torr）版本
适合顺序蒸发及共蒸发
可选配电源、坩埚内衬及其他配件
型号规格
| 型号 | 坩埚数量 | 坩埚体积(cc) | 发射器数量 | 功率(kW) |
|---|---|---|---|---|
| Single | 1 | 7 – 156 | 1 | 6 – 20 |
| Single Rotary | 4 | 7 – 25 | 1 | 6, 10 |
| Twin™ | 2 | 10, 15, 40 | 2 | 10, 15 |
| Triad™ | 3 | 10, 15, 40 | 3 | 6, 10 |
| Quadra | 4 | 10, 15, 40 | 4 | 6, 10 |
| Hydra-1™ | 1阵列 | 5个坩埚 | 1-3 | 详见下文 |
| Hydra-2™ | 2阵列 | 共10个坩埚 | 2-6 | 详见下文 |
Hanks HM² Hydra动态源电子束蒸发枪
创新的Hydra设计包括一个或两个紧凑坩埚阵列，阵列间线性可移动，支持最多6种材料的同步共沉积。
Hydra设计高效利用空间，提供4种不同的6坩埚组合方式及多达42种双金属组合排列，单次真空泵下完成多材料共蒸发。
Hydra消除了相邻蒸发源之间的相互干扰，无需复杂的束流方向控制和笨重的磁场旁路元件。紧邻的蒸发源实现均匀涂层和材料相互作用。
每个蒸发源均独立水冷，防止蒸汽积聚；独立的扫描线圈确保各源参数相互独立，避免交叉干扰。
Hydra-1与Hydra-2技术参数
| 特性 | 10 kW型号 | 15 kW型号 |
|---|---|---|
| 最大功率 | 10 kW | 15 kW |
| 坩埚体积 | 10/15 cc | 40 cc |
| 发射电压 | 10 kV | 10 kV |
| 发射电流 | 0 – 1.0 A | 0 – 1.5 A |
| 灯丝功率 | 700 W | 700 W |
| 电子束偏转角度 | 220° | 220° |
| 电子束斑点尺寸 | 直径0.25英寸 | 直径0.25英寸 |
| 蒸发速率（铝） | 10 kW时1克/分钟，25cm处3.6微米厚 | 15 kW时1.5克/分钟，5万埃/分钟 |
| X、Y扫描 | Hyper-Unimelt扫描（0-200 Hz） | Hyper-Unimelt扫描（0-200 Hz） |
| 冷却用水 | 3.0 gpm/坩埚，共同回路（最高30 gpm） | 3.0 gpm/坩埚，共同回路（最高30 gpm） |
| 坩埚材料 | OFE铜 | OFE铜 |
| 烘烤温度 | 230°C (446°F) | 230°C (446°F) |
| 电子枪尺寸-单阵列 | 6.25″ × 5.5″ × 15″ | 6.25″ × 5.75″ × 15″ |
| 电子枪尺寸-双阵列 | 6.25″ × 11″ × 15″ | 6.25″ × 11.5″ × 15″ |
电源
10 kW型号：10kW+电子枪电源
15 kW型号：12kW电子枪电源
