VariGATR™ 掠角 ATR 附件是分析半导体和金属衬底上单层层的革命性方法。VariGATR™ 是可变角度的,因此可以优化入射角,以获得这些类型样品的最高灵敏度。其专门设计的压力涂抹器经过优化,可在样品和 Ge ATR 晶体之间提供良好的接触。VariGATR™ 非常适合快速、可重复的测量,并且相对于掠射角方法,灵敏度至少提高了一个数量级。此外,它还提供了一个易于使用、完全预对准的水平采样附件,非常方便。
特征
- 方便的水平采样表面。
- 内置压力涂抹器,带滑动离合器,可实现可重复的压力应用。
- 从 60º 到 65º 的连续可变角度允许优化以获得最大灵敏度。
- 消隙机构允许准确、可重复的角度选择。
- 镶嵌的 Ge ATR 晶体。
- 可容纳直径达 8 英寸的样品,可对直径达 6 英寸的圆盘进行中心采样。
- PermaPurge™ 用于快速清洗系统。
- 选项包括: