Harrick Scientific WafIR™ ATR 晶圆检查器 分析应用于双面抛光晶圆一侧的单层和其他薄涂层

WafIR™ 是一种水平 ATR 附件，用于分析应用于双面抛光晶圆一侧的单层和其他薄涂层。它具有 45° 入射角硅晶体，可将光耦合进出晶圆。WafIR 将压力涂抹器与压力垫相结合，旨在以最小的接触面积实现最佳接触，并且接触区域位于测量区域之外。压力施加器包括一个滑动离合器，用于限制施加到样品上的总力，并与扭矩扳手兼容以实现可重复性。WafIR 是完全封闭的，可快速吹扫，并与大多数 FTIR 光谱仪兼容。

特征

• 无障碍的水平采样表面可容纳直径为 52 x 10 mm 至 203 mm （8“） 的晶圆。
• 非接触式采样方法;与耦合晶体的接触范围在测量区域之外。
• 由于多次反射，灵敏度高。
• 为 0.770 mm 厚的晶圆提供来自涂层表面的 33 次反射。
• 固定 45° 入射角。
• 可更换的 Si 耦合晶体。
• 内置滑动离合器限制了施加到样品上的总力。
• 独特的压力涂抹器，带衬垫，与样品的接触最小。
• 易于对齐和使用。
• PermaPurge™ 可在不中断吹扫的情况下快速更换样品。

包括

• WafIR 与 Si 耦合晶体。
• 指定光谱仪的配接硬件。

相关配件和零件