VDM-3 陶瓷膜片 ATM 真空传感器具有耐腐蚀的氧化铝膜片，该膜片会根据施加的压力而弯曲。核心压力传感器元件采用压阻式测量技术。该隔膜传感器测量真空气体压力，不受气体类型或成分的影响。
除了绝对压力传感器外，集成的气压传感器还可以测量环境压力并生成相对于环境压力的真空测量信号。这种相对于大气压力的测量可以精确控制真空系统排放到大气压期间的压力。
与通常使用充油传感器元件的不锈钢压电陶瓷真空传感器相比，VDM-3 陶瓷压电传感器元件清洁干燥，消除了污染真空系统的风险。
0.1 至 1333 mbar 测量范围
使用陶瓷隔膜传感器进行气体无关型测量
耐腐蚀性
与多种酸和溶剂兼容
双传感器组合
结合真空测量和相对于大气压的测量
控制真空系统通风
表压测量和大气切换选项
电容式隔膜真空计的替代品
电容式隔膜真空计用于许多真空应用中，用于高级过程的测量和控制。VDM-3 传感器是传统 1000 Torr/mbar 满量程电容膜片真空计 （CDG） 的一种经济高效且紧凑的替代品。
对于需要单独大气开关的应用，VDM-3 可以将真空测量和大气开关功能整合到一个设备中。
专为恶劣环境而设计
VDM-3 可用于可能存在腐蚀性气体和化合物的苛刻真空应用。陶瓷氧化铝隔膜对许多溶剂和酸具有出色的耐腐蚀性。
VDM-3 传感器还可选配聚对二甲苯保护屏障，以防止传感器材料腐蚀或氧化。聚对二甲苯是一种独特的聚合物，具有高度的耐腐蚀性和疏水性，专为医疗器械的冻干和过氧化氢等离子体灭菌等医疗应用而设计。
在存在宏观颗粒的真空系统和过程中，可选的保护挡板可作为防止污染物沉积在传感器隔膜上的有效屏障。
氧化铝传感器元件设计坚固，能够承受瞬时通风和高达 2 bar 绝对压力 （29 psia） 的过压。
测量和控制高级真空过程
VDM-3 传感器具有出色的性价比，可用于监控和
在许多工业和科学应用中测量前级真空压力。
VDM-3 具有模拟和数字输出，为各种真空控制应用提供灵活性和精度。
模拟电压输出
模拟输出为外部压力读数或控制提供电压信号。
VDM-3 传感器具有许多不同的预配置模拟输出曲线，可无缝替换来自不同供应商的仪表。
此外，用户可以配置输出以进行任意线性缩放。
连接数字
RS-232 和 RS-485 串行接口有助于传输测量数据，而不会因电缆长度过长而降低信号质量，也不会受到电噪声的干扰。
数字界面支持诊断、预测性维护、服务、校准、设定点配置、模拟输出缩放和实时真空压力测量采集，以实现屏幕可视化。
当模拟输出设置为缩小的测量范围时，例如 100 Torr 满量程，数字输出独立提供高达 1333 mbar （1000 Torr） 的全量程测量。
强大的设定点继电器控制
三个独立的固态开关继电器可用于泵、阀门、安全联锁电路和其他外部设备的外部控制。
与机电继电器相比，固态继电器提供卓越的可靠性和更快的开关时间，同时提供无电弧触点，并且在开关时不会产生 EMI（电磁干扰）。
VDM-3 继电器经久耐用，经过 UL 认证、CSA 认证和 EN/IEC 60950-1 认证，在用于控制关键真空过程和高循环应用时具有最大的信心。
其他供应商兼容性
直接替换真空传感器的设计具有连接器引脚兼容性，无需更换电缆即可无缝更换其他供应商的仪表。
此外，这些传感器还模拟了模拟输出缩放和其他制造商的等效产品范围。
此外，Sens4 传感器能够模拟数字串行通信协议，无需调整真空设备的通信软件即可轻松安装。这种数字协议仿真可确保与来自不同供应商的电源和控制器显示单元兼容。
自定义设置
VDM-3 传感器可以定制配置，以满足特定的应用要求，并开箱即用地适用于特定的设备安装。预配置选项的示例包括测量范围、真空压力单位、设定点配置和输出信号缩放。
定制产品将被分配一个唯一的零件编号，以便将来轻松直接地重新订购。
应用和市场
VDM-3 传感器专为高级真空过程的可靠测量和控制而设计，适用于工业和科学领域的广泛应用。VDM-3 传感器有多种选择可供选择，可满足各种应用的不同要求。
氢气供应
氢气储罐和供应管线中绝缘真空的测量和监测。
半导体
半导体应用中的 CVD、PVD 和前级真空测量。提供陶瓷耐腐蚀传感器。
压缩机服务
充分利用 VPM-5 在质谱仪仪器中提供的低压测量功能。
PVD 涂层
VPM-5 具有可维修的挡板保护，可在物理气相沉积 （PVD） 涂层应用中使用并延长使用寿命。
炉
在真空热处理过程中测量和控制真空。可选的挡板和涂层保护可用于工业应用。
空间模拟
在模拟太空的恶劣环境时测量真空气体压力。
