sens4 VDM-2陶瓷膜片真空传感器

VDM-2陶瓷膜片真空传感器
| 真空测量 |

测量范围
0.1至1333毫巴
采用陶瓷膜片传感器，实现与气体种类无关的精准测量

卓越耐腐蚀性
兼容多种酸类和溶剂

多样化控制选项
配备模拟/数字接口及过程控制设定点继电器

即插即用替换方案
引脚与输出信号兼容其他厂商的钢制压电传感器

VDM-2陶瓷膜片真空传感器采用耐腐蚀氧化铝膜片设计，其形变程度与所受压力呈函数关系。核心压力传感元件运用压阻式测量原理，可不受气体类型或成分影响，实现精准真空压力测量。

相较于传统采用油浸式传感元件的不锈钢压电传感器，VDM-2的陶瓷压电传感元件保持洁净干燥状态，彻底杜绝真空系统污染风险。

电容式膜片规的替代方案
电容式膜片规（CDGs）广泛应用于各类先进工艺的真空测量与控制领域。VDM-2传感器作为传统1000托/毫巴全量程电容式膜片规的经济型紧凑替代方案，具有显著优势。

VDM-2测量范围与严苛环境适应性
VDM-2专为存在腐蚀性气体和化学物质的严苛真空环境设计。氧化铝陶瓷膜片具有卓越的耐腐蚀特性，可耐受多种溶剂和酸类的侵蚀。

可选防护配置

1. 聚对二甲苯防护涂层：
   该特殊聚合物涂层具有优异的耐腐蚀性和疏水特性，特别适用于医疗应用场景，如冻干工艺和医疗器械的过氧化氢等离子灭菌。
2. 防护挡板选件：
   针对存在宏观颗粒物的真空系统和工艺，可有效阻隔污染物在传感器膜片上的沉积。

卓越的机械强度
氧化铝传感元件结构坚固，可承受瞬时通风和最高2巴绝对压力（29磅/平方英寸绝对压力）的过压工况。

先进真空工艺的测量与控制
VDM-2传感器以卓越的性价比，为工业与科研领域的前级真空压力监测提供理想解决方案。该产品兼具模拟与数字输出功能，为多样化真空控制应用提供灵活而精确的测量手段。

VDM-2传感器配备RS-232和RS-485串行接口，可实现长距离无损信号传输，有效避免电缆衰减和电磁干扰的影响。

通过数字接口，用户可进行：

• 设备诊断与预测性维护
• 服务校准与设定点配置
• 模拟输出比例调节
• 实时真空压力数据采集及可视化显示

特别值得注意的是，当模拟输出设置为100托等小量程范围时，数字输出仍可独立提供高达1333毫巴（1000托）的全量程测量能力。

应用领域与市场
VDM-2陶瓷膜片真空传感器专为先进真空工艺的可靠测量与控制而设计，适用于工业与科研领域的多种应用场景。产品提供丰富的VPM-5配置选项，可满足不同应用的个性化需求。

主要应用场景

1. 物理气相沉积(PVD)
   • PVD镀膜工艺
     配备可维护挡板保护的VDM-2传感器，可在物理气相沉积(PVD)镀膜应用中实现长效稳定运行。
2. 工业炉真空应用
   • 真空热处理
     精确测量与控制热处理过程中的真空度，可选配挡板及特殊涂层保护，满足严苛工业环境需求。