SENS4,VDM-3,陶瓷膜片真空变送器,PVD镀膜,炉内真空,空间模拟

SENS4,VDM-3,陶瓷膜片真空变送器,PVD镀膜,炉内真空,空间模拟,VDM-3 传感器专为先进的真空工艺的可靠测量和控制而设计,适用于广泛的工业和科研应用。多种型号的 VDM-3 传感器可满足不同应用场景的各种需求。

VDM-3 陶瓷膜片真空变送器
| 真空测量 |

基础参数

  • 量程范围:0.1~1333 mbar
  • 测量原理:陶瓷膜片压阻式(气体类型无关)
  • 耐腐蚀性:兼容强酸/有机溶剂

核心功能

  1. 双传感器复合测量:
    • 绝对真空压力测量
    • 大气压参考式相对压力测量
  2. 真空系统排气控制:
    • 表压测量模式
    • 大气压切换功能

技术优势

  • 干式氧化铝陶瓷膜片(无油污风险)
  • 可选派瑞林防腐涂层(医疗级疏水材料)
  • 防护挡板选配(防颗粒沉积)
  • 耐受2 bar绝压(29 psia)瞬时过载

接口与控制

  • 模拟输出:支持自定义标定曲线,兼容主流品牌替换
  • 数字接口:RS-232/485抗干扰传输
  • 固态继电器:3组UL/CSA认证触点(无电弧/零EMI)

兼容性设计

  • 引脚定义兼容MKS902B等工业标准
  • 模拟输出/数字协议可仿真他厂产品

应用与市场
VDM-3 传感器专为先进的真空工艺的可靠测量和控制而设计,适用于广泛的工业和科研应用。多种型号的 VDM-3 传感器可满足不同应用场景的各种需求。

PVD
PVD镀膜
VPM-5 配备可维护的挡板保护,适用于物理气相沉积(PVD)镀膜应用,并具有较长的使用寿命。

炉内真空应用
工业炉
真空热处理过程中测量和控制真空。可选配挡板和镀层保护,以满足工业应用需求。

空间模拟
空间模拟
在模拟太空恶劣环境时,测量真空气体压力。

氢气真空
氢气供应
用于测量和监控氢气储存罐和供气管线中的隔热真空。

半导体
半导体行业
在半导体应用中进行 CVD、PVD 和前级真空测量。可选配耐腐蚀陶瓷传感器。

压缩机服务
利用 VPM-5 提供的低压测量能力,用于质谱仪设备。

VDM-3 陶瓷膜片真空变送器技术规格

测量参数
▸ 量程范围:0.1~1333 mbar(0.1~1000 Torr)
▸ 测量原理:陶瓷膜片压阻式
▸ 精度

  • 100~1333 mbar:读数的±0.5%
  • 1~99.9 mbar:满量程的±0.05%(基于1333 mbar)
    ▸ 滞后性(ISO19685:2017)
  • 0.1~10 mbar:1%
  • 10~1200 mbar:0.1%

电气特性
‖ 模拟输出

  • 分辨率:16位(150 μV)
  • 更新率:560 Hz
    ‖ 响应时间(ISO 19685:2017):<20 ms
    ‖ 温度补偿范围:+10~+50°C

固态继电器
◆ 设定点范围:1~1333 mbar(0.75~1000 Torr)
◆ 触点容量:50V/100mA
◆ 认证

  • UL认证(文件号E76270)
  • CSA认证(证书号1175739)
  • EN/IEC 60950-1认证

环境条件
√ 工作温度:-20~+50°C
√ 介质温度:-20~+50°C
√ 存储温度:-40~+80°C
√ 烘烤温度(非工作状态):+80°C
√ 最大介质压力:2 bar绝压(29 psia)
√ 爆破压力:4 bar绝压(58 psia)
√ 防护等级(EN 60529/A2:2013):IP40
√ 湿度(IEC 68-2-38):98%(无冷凝)

电源
※ 供电电压:12~30 VDC
※ 功耗:≤240 mW
※ 保护功能

  • 反极性保护
  • 过压保护
  • 100mA自恢复保险丝

材料
► 外壳:SS 1.4307/AISI 304L/铝合金6061
► 真空法兰(接触介质):SS 1.4401/AISI 316
► 标准版真空接触材料
316不锈钢/Viton®/氧化铝陶瓷(Al₂O₃)
► 派瑞林保护版
316不锈钢/Viton®/派瑞林涂层
► 工艺泄漏率:<1×10⁻⁹ mbar·l/s

认证
◇ CE认证:符合EMC指令2014/30/EU
◇ RoHS合规:符合EU 2015/863指令

SENS4,VDM-3,陶瓷膜片真空变送器,PVD镀膜,炉内真空,空间模拟
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