RCH Steamer 102B-50——集成式高流量蒸汽发生与输送单元

流量高达 50 slm

RCH蒸汽发生器
无氢湿法氧化解决方案

为硅及其他半导体材料的湿法氧化和蒸汽退火工艺提供超高纯度蒸汽生成的有效解决方案。

仅使用去离子水（DI H₂O）即可产生蒸汽——无需氢气！

这项技术为何意义重大

革命性的无氢蒸汽生成技术，正在改变半导体湿法氧化工艺

传统上，半导体行业一直依赖热火炬系统进行湿法氧化工艺。这些系统通过在火炬中燃烧氢气和氧气来生成蒸汽，从而产生硅片氧化所需的高纯度蒸汽。然而，这种方法伴随着显著的安全风险、运营成本和维护难题。

RCH Associates革命性的RCH蒸汽发生器完全摒弃了氢气的使用，提供了一种更安全、更具成本效益的替代方案，能够在无需氢气处理相关风险和费用的前提下，提供超高纯度的蒸汽。

✓ RCH蒸汽发生器

✓ 无需氢气——消除爆炸风险

✓ 更低的使用成本——无气体消耗

✓ 维护更简便——无火炬部件

✓ 工艺更优——无火炬热量，均匀性更佳

⚠️传统热火炬

✗ 需要氢气处理及安全规程

✗ 持续的氢气成本及输送基础设施投入

✗ 需进行火炬维护和石英器件更换

✗ 热量产生影响炉管温度曲线

RCH蒸汽发生器的优势

无需氢气： 无需使用H₂即可生成超纯蒸汽，从而实现安全运行、性能提升和成本降低。仅需去离子超纯水（DI H₂O）即可产生蒸汽。

无石英破损： 无需使用火炬石英器件，从而避免了在生成热火炬“火焰”过程中石英器件的老化劣化问题。这使得设备运行时间更长，维护需求更低。

改善热性能： 消除了热火炬产生的热量，从而改善了炉管恒温区温度曲线。这带来了更好的均匀性和整体温度性能。

提升氧化生长速率与均匀性： 与火炬相比，可建立更高的蒸汽流量，实现炉管内的完全饱和。这带来了更优的氧化均匀性和更高的氧化速率。

关键介电层完整性： 提供与热火炬所生成蒸汽相同的氧化介电层完整性。

简单的设备控制： 其接口类似于质量流量控制器，可与大多数扩散炉系统所采用的气体系统和主机控制系统连接。既可用于新建安装，也可用于现有炉管系统的改造升级。

简便的厂务接入： 厂务需求得以简化。蒸汽发生器运行仅需一路经调压的 16 兆欧去离子超纯水供应和一个低流量的去离子超纯水排水口。

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