RCH Associates的炉管系统专为实现最佳温度精度和稳定性而设计。 系统封装于整体式、坚固且隔热的机柜结构中，最多可配置 4 个加热组件，便于维护并延长使用寿命。借助我们专有的ASTRA控制系统，RCH炉管为操作人员提供最大程度的精度和易用性，并配备全面的自动化和数据记录工具，以确保工艺一致性。大多数RCH扩散和LPCVD工艺在出售时均附带工艺性能指标保证（如片内均匀性、片间均匀性等）。RCH拥有数十年为各种应用定制生产各类炉管系统的经验，应用领域包括：
4层立式LPCVD 炉管（200mm晶圆）
一款大型工业实验室仪器，配备多个不锈钢腔室和控制面板，用于科学测试或工艺处理。
3层真空退火炉（150mm晶圆）
一款大型不锈钢工业设备，配有多种组件、控制面板和屏幕，通常用于科学或制造用途。
2层水平扩散炉（300mm晶圆）
RCH炉管系统围绕以下特点进行设计：
炉体机柜
整体式钢结构组件
铰链式、可锁定且可拆卸的加热元件检修门
隔热机柜面板
耐高温聚氨酯涂层
易于调节的加热元件对准支架
机柜超温互锁传感器
调平垫脚及可选配的抗震支架
有毒气体处理系统
不锈钢结构
排出工艺管或腔室中的气体和热量
每层炉管独立可调的排气抽力
每层炉管采用悬臂式密封或手动门密封
LPCVD 法兰及气管接头安装方案
差压计用于监测排气抽力
气-水热交换器
用于将炉体机柜顶部的热空气排出
实现炉管间的 HVAC 控制
水冷式高效散热器
导流挡板用于引导气流穿过机柜
排风扇模块用于强制排风
配电系统
位于炉体机柜底座内部
容纳变压器、接线端子和母线排
容纳温度控制器及接触器/断路器
组件易于检修
下拉式面板便于检修控制模块
EMO 安全控制（紧急断电）
每段加热区配备冗余超温互锁
高性能加热元件
加热元件
温度范围可选 350 至 1350°C
600 至 1350°C 范围内精度 ±0.5°C
350 至 600°C 范围内精度 ±1.0°C
真空成型的的高纯度氧化铝保温层
不锈钢护套
带固定螺距的螺旋绕丝
每区配备控温和超温热电偶
封闭式热电偶线槽
热电偶固定和对准夹
能源套件
高纯度氧化铝炉口砖
NEXTEL 软质护圈
不锈钢捕获环、压板和护圈
RCH水平扩散炉（2 至 4 管，适用 75-300mm 直径晶圆）
干法氧化
添加 HCl 的干法氧化
添加 DCE 的干法氧化
利用 RCH Steamer™ 无氢湿法氧化
热火炬氧化，内置火炬
热火炬氧化，外置火炬
添加 HCl 的热火炬氧化
添加 DCE 的热火炬氧化
去离子水鼓泡氧化
POCl₃ 磷源液体源掺杂
BBr₃ 硼源液体源掺杂
固相源掺杂
氢气退火/合金
合成气退火/合金/烧结
惰性或贵金属气体退火/合金/烧结
水平LPCVD 炉管（最多 4 管，适用 75-200mm 直径晶圆）
本征多晶硅
非晶硅
磷掺杂多晶硅
SiPOS（掺氧多晶硅）
氮化硅（Si₃N₄）
低应力氮化硅
氮氧化硅
HTO（高温氧化物）
LTO（低温氧化物）
PSG（磷硅玻璃）
BPSG（硼磷硅玻璃）
TEOS（正硅酸乙酯）
掺杂 TEOS
RCH真空退火系统（快速冷却，适用 100-150mm 晶圆）
VAF型炉管系统由 RCH Associates 设计，用于对耐火金属和复合金属等对残余氧化敏感的衬底薄膜进行退火、合金或烧结处理。
该系统包含一个可移动的加热元件，该元件沿主真空工艺腔体的外部移动。
这一独特设计使得工艺腔体能够在保持真空状态的同时实现快速升温和冷却。
小批量系统（适用 50-200mm 直径晶圆）
台式炉，适用 50-150mm 晶圆
台式炉，适用 150-200mm 晶圆
独立式单管或双管 RCH 炉管，适用 50-150mm 晶圆
RCH Associates炉管系统、ASTRA控制系统、RCH炉管、4层立式LPCVD 炉管、3层真空退火炉、2层水平扩散炉