Quantum qX2风冷式 Peltier 控制的比色皿支架PE265温控池支架

Quantum qX2风冷式 Peltier 控制的比色皿支架PE265温控池支架

qX2

qX2

用户可定制的风冷式 Peltier 控制的比色皿支架,带有两个光学端口

Quantum qX2风冷式 Peltier 控制的比色皿支架PE265温控池支架产品概述qX2 是一款风冷、温控比色皿支架,带有两个光学端口,用于吸收光谱或使用 180° 光束路径进行的任何实验

此标准型号具有铝制底板,可提供无限的用户可定制安装选项。我们还提供与来自不同制造商的各种分光光度计兼容的安装选项,或者立即联系我们获取定制安装解决方案,以满足您的实验需求!查看下面的可用选项!

qX2 是我们风冷式比色皿支架系列的一部分,非常适合 0 °C 至 110 °C 的温度范围,无需液体冷却。强制空气用于去除帕尔贴换热器中的热量。不再需要将仪器拴在水桶、冷却器或其他循环储液器上,以设置和保持精确的样品温度

qX2 还能够以稳定的可重现速率搅拌样品,并能够在受控的气体环境中淹没光学元件,同时在较低温度下工作以保持光学清晰度。使用 qX2 在精确保持的温度下观察吸光度光谱,或用于温度斜坡,以观察吸光度如何随温度变化。

购买低温选件,包括带窗背心和液体冷却功能,可在 0 °C 至 -35 °C 的范围内轻松作 qX2。 购买扩展温度选件,将作范围延长至 110 °C 至 150 °C 以上,适用于所有高温实验。购买两者以创建终极的无所不能的设备!

使用 TC 1 温度控制器作 qX2 很容易,包含在购买价格中。样品温度、搅拌速度和升温速率可以使用前面板上的 TC 1 菜单控制按钮手动控制,也可以使用 Quantum Northwest 的计算机控制软件 T-App(可购买)进行控制。

Quantum qX2风冷式 Peltier 控制的比色皿支架PE265温控池支架产品特点快速、精确的帕尔贴温度控制
精确的步进电机驱动磁力搅拌
用于低温工作的干燥气体吹扫
用于提高温度稳定性
的盖子 用于安装窗口或过滤器
的螺纹插件 可选的扩展温度范围
可用于极端温度的
带窗护套 用于控制照明体积
的光学狭缝支架 用于移除比色皿
的比色皿升降器用于样品温度
的探头输入 NIST 可追溯温度校准

技术规格

受控的比色皿数量: 1
典型用途: 吸光度
标准比色皿尺寸(外部): 12.5 毫米 x 12.5 毫米
每个比色皿的光学端口: 2
光端口尺寸: 12 mm 高 x 10 mm 宽
比色皿 z 高度:15 毫米
提供带窗的背心:是的
出厂设置温度范围:-40 °C 至 +110 °C
温度范围易于实现:-5 °C 至 +110 °C
低温选项范围: -35 °C 至 +110 °C
带扩展温度选项的范围: -35 °C 至 +150 °C
温度精度: ±0.02 摄氏度
接受热敏电阻探头: 探头/QNW3
磁力搅拌电机型: 步 进
磁力搅拌速度范围: 1-2500 转/分
默认搅拌速度: 1200 转/分
搅拌速度最佳性能: 60-1800 转/分

基础配置
qX2 – 温控比色皿支架
TC 1 – 温度控制器
NIST 可追溯的校准和性能数据
磁力搅拌棒、干气管和电缆

qX2/8454

qX2/8453

qX2/8452

qX2/Cary60

qX2/Cary300

qX2/Cary5000

qX2/岛津

qX2/UV1280 系列等


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