描述
专用于通过电子光谱技术对固体和粉末样品进行表面分析的多室 UHV 系统：
- X 射线光电子能谱 (XPS)
- 紫外光发射光谱 (UPS)
- 俄歇电子能谱 (AES)
- 扫描探针显微镜 (SPM)
- 低能电子衍射 (LEED)
- 程序升温脱附 (TPD)
- 解决方案允许在所有腔室中使用一种样品架类型。
该系统包括：
- 带有分析仪（包括仪器和软件）的光谱室，允许使用 XPS、UPS、AES、EPS 技术。该分析仪支持 XPS 测量，在所选表面 <= 1x1mm 上进行高分辨率、精确和深度轮廓分析，可以进行化学成像和角分辨测量
- 带有仪器和软件的变温 STM/AFM 室，专用于原子分辨率测量
- 专门用于制备样品的制备室，配备有 AES/LEED 光谱仪和带有残余气体分析仪（包括仪器和软件）的热解吸光谱仪。此外，还配备了用于薄膜生产的热和电子轰击源和用于表面清洁的离子源。腔室配备机械手XYZ，
- 旋转倾斜允许将样品冷却至 90°K 并将样品加热至 2200°K。
此外，该系统还配备：
样品装载、传输和存储系统，样品制备和清洁设备。UHV 流经高压反应器。气体加药系统、压力和温度测控系统、真空控制系统。样品温度测控系统。样品装载，为 UHV 手提箱使用做准备，独特的径向分布室系统，具有极易处理的解决方案。具有加热和冷却可能性的储藏室。用于高达 20 bar 和 650°C 的热/压力过程的高压反应器。在高压和特高压下极短时间加热的解决方案。
