离子源IS 40E1——双透镜、聚焦、提取器型离子枪。适用于深度剖面(Ar),可与O2、H2、碳氢化合物和所有惰性气体等反应性气体一起操作。该离子源能够以推荐的工作距离对表面的10 mm x 10 mm区域进行光栅处理。它特别适用于XPS、ISS和SIMS中的深度剖面。该源也可用于样品表面清洁。
特性
特殊配置的鼻锥
使用惰性气体(Ar)和反应性气体(O2、H2、寿命缩短的碳氢化合物)进行操作
连续可变光斑尺寸
极均匀的火山口/光束轮廓
内置可更换灯丝
特高压气体入口
室内维持特高压条件
集成扫描和偏转单元
入射电子束角度校正(由IS40-PS电源提供)
选配
维恩质量过滤器
气体进样系统
线性偏移:25、50、75、100毫米
泵组(2级)
真空计组
技术参数
Mounting flange | DN 40CF (rotatable) |
Gases | Ar and reactive gases (O2, H2 hydrocarbons with reduced lifetime) |
Energy range | 0.15 keV – 5 keV |
Scan area | 10 mm x 10 mm (for working distance of 23 mm) |
Current density | up to 4 mA / cm2 (for distance 23 mm) |
Beam current | > 1 μA (for distance 23 mm) |
Cathode type | yttrium oxide coated iridium filament |
Small cone angle | 50° |
Insertion length | 163 mm (standard), OD: 34 mm |
FWHM | dependent on working distance (e.g. < 150 μm for distance 23 mm) |
Typical working distance | 23 – 120 mm |
Bakeout temperature | 250 °C |
Working pressure | 10-8 mbar (with max beam current) |