波兰PREVAC 032 PRIMS basic MS system磁控溅射系统
1996年成立于波兰，是基于真空技术的沉积和分析系统的全球领先制造商，致力于研究固态表面，薄膜和纳米材料的化学和物理性质
PREVAC 032 PRIMS basic MS system是简单、功能齐全的喷溅沉积装置用于可再生薄膜层的应用。 插孔与工作 紧凑型设计 .
工艺室 包含3个用于磁控溅射源(用于金属和无机物)的端口,安装在一个向下发射装置上。最多同时使用两种来源(共沉积)的底物级是打算为2英寸直径的样品,与加热和旋转选择。
PREVAC 032 PRIMS basic MS system特点：
- 插入和工程施工
- 易于使用的快速测试和溅射涂料机动装置
- 处理室 l 拱形真空门 方便目标或基板更换
- 配备 MS2100电离-K磁控管源 小说的 M600直流-PS电源
- 底层阶段 2以下 直径样品
- 工艺室直径:355毫米口径
- 3个港口 2英寸磁控管源
- 1个视野-带快门的观察窗
- 防护罩 对抗交叉污染
- 碱压 范围10 -7 马巴
- 快速抽水系统 与…有关 真空计
- 自动加药 通过质量流量控制
- A 车轮上坚固的主框架 方便放置系统
- 手动节流阀
PREVAC 032 PRIMS basic MS system描述：
快速泵送系统（带手动节流阀）与工艺室的小体积相结合，使您能够在短时间内达到基础压力。
工艺室配有高压标准的连接法兰，用于连接当前和未来的设备，包括：
最多3个2英寸磁控管源，
基板操纵器，
泵送系统，
防止交叉污染的防护罩，
石英天平，
视口——带快门的观察窗，
真空计，
高温计。
PREVAC 032 PRIMS basic MS system应用
| 应用程序 | 例子 | |
| 单层和多层导体薄膜(用于微电子和半导体器件) | Al, Mo, Mo/Au, Ta, Ta/Au | |
| 半导体金属化的屏障层 | TiN, W-Ti | |
| 磁学电影 | Fe, Co, Ni, Fe-Al-Si, Co-Nb-Zr, Co-Cr, Fe-Ni-Cr, Fe-Si, Co-Ni-Cr, Co-Ni-Si | |
| 光学涂料-金属(反光) | Cr, Al, Ag | |
| 光学涂料-介质 | MgO, TiO2 , ZrO2 | |
| 照相器 |
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| 透明气体/蒸气渗透屏障 | Al2O3 | |
| 透明导体 |
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