Prevac 微型分子束外延系统Mini MBE systems, 半导体薄膜外延生长系统，微型 MBE 分子束外延设备

Prevac 微型分子束外延系统

一款简易实用、功能完备的微型分子束外延系统，专用于薄膜外延生长，采用即插即用的紧凑型设计。
若您需要获得高质量的薄膜沉积工艺，同时追求设备低运行成本、小体积的设计，该产品是理想之选。此设备尤其适用于研发机构开展新型材料与工艺的快速验证等场景。
该独立式分子束外延系统，可用于III-V 族、II-VI 族化合物及其他各类异质结等材料的外延生长，应用范围广泛。

Prevac 微型分子束外延系统特征：
即插即用结构
经济化解决方案，专为空间受限的实验室设计
适用于 III‑V 族、II‑VI 族化合物及其他异质结材料的外延生长
最多 8 个蒸发源，配备 DN 40CF 法兰接口及对应电源
四轴电动 / 手动样品操纵台，搭配高精度温控系统：电阻加热最高 1000℃，电子束加热最高 1400℃，支持水冷 / 液氮冷却（可按需提供简化版操纵台）
适配旗型基片 / 样品支架
配备液氮冷屏时本底真空：＜2×10⁻¹⁰毫巴
Ø250mm 小型工艺腔体，配可更换底部法兰
抽气系统（由前级泵、涡轮分子泵、离子泵与钛升华泵组成）
石英晶体微量天平，用于沉积速率监测与膜厚控制，带 Z 轴位移台，可在焦点位置测速率
配备反射高能电子衍射仪 / 宽量程反射高能电子衍射仪
40CF 法兰接口增设独立遮挡板
预真空室 (Load Lock)：适配单样品支架，或选配 6/12 位旗型基片支架旋转料仓
预真空室至工艺腔体可靠高效的直线传输系统
成套真空规管及配套组件
观测视窗（带遮光板）
烘烤前带集成排空管路的冷却系统
腔体烘烤系统
可调式刚性主机架，配大尺寸脚轮，便于设备移动部署
19 英寸标准机柜，内置电控单元

微型 MBE 分子束外延设备主要技术：
工艺腔体设有8 个蒸发源接口，样品载台适配 10×10 毫米规格样品，支持加热与旋转选配功能。
薄膜沉积工艺可在液氮温度至 1400℃的宽温区范围内调控，全程支持PLC 控制器软件编程与全自动控制。
工艺腔体配备超高真空（UHV）标准连接法兰，可接入现有及后续扩展设备，包括：
最多 8 个 DN40CF 法兰外延裂解池（高温 / 低温、单灯丝 / 多灯丝可选）
温区覆盖液氮温度至 1400℃的样品操纵台
抽气系统（由前级泵、涡轮分子泵、离子泵及钛升华泵组成）
成套真空规管及配套组件
直线传输系统或传输箱接入端口
带 Z 轴操纵台的石英晶体微量天平及膜厚监测仪
成套反射高能电子衍射仪 / 宽量程反射高能电子衍射仪
电动 / 手动遮挡板（随样品同步动作），用于斜切晶层生长或掩膜沉积
额外气体定量注入接口，可用于反应沉积工艺
带遮光板的观测视窗
残余气体分析仪
供诊断设备使用的加热视窗
设备最终设计与功能取决于具体配置方案。
抽气系统搭配小容积工艺腔体，可快速达到本底真空，本底真空值保证优于 5×10⁻¹⁰毫巴。
系统配置先进易用的电源及电控装置，用于控制蒸发源及整套配套科研设备。