红外室专为红外光谱研究而设计。它配备了精密的样品定位机构、视口和备用端口,用于未来的设备。该系统包括溴化钾玻璃端口,可与 Bruker Optics Inc. 红外光谱仪配合使用。其他市售光谱仪可根据要求进行接口。 | UHV 系统,用于超薄磁膜和多层的原位实时磁光克尔效应研究。 它旨在研究偏振光通过受磁场影响的样品材料的反射。
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独立的 UHV 装置,用于测量超薄膜的吸附/解吸,能够在较宽的温度范围内进行高精度温度控制。 | 独特的原子力显微镜分析系统,可在宽压力范围内工作,用于气固界面的前沿研究。主 AFM 室 – 由不锈钢制成,带有不同尺寸的连接法兰,用于当前和其他设备。工作压力范围为 1 个大气压至 UHV(在 150 ºC 下烘烤后)。 |
| 摩擦计 带 6 轴力传感器的 UHV 摩擦计。 用于研究两个表面之间的摩擦学和机械性能(例如,用于压痕和断裂实验)的模块,温度范围很广,从 UHV 到环境压力条件。 |
