标准 PLD 系统
PREVAC 标准 PLD 系统由一个沉积过程腔体与一个装载仓（Load-lock）组成，方便快速地加载样品。
这款独立式脉冲激光沉积（PLD）系统适用于生长铁磁薄膜、陶瓷氧化物、高温超导材料、金属多层膜等。
特点与描述：
适用于大多数 PLD 生长工艺研究需求的多功能解决方案
支持生长材料类型包括：
铁磁薄膜
陶瓷氧化物
高温超导材料
金属多层膜等
垂直式 PLD 工艺几何结构
可配置 EXCIMER 激光器或 YAG 激光器，并配套激光光路引导系统
1~4 轴电动或手动样品操控器（带接收平台），加热温度最高可达 1400°C（采用高稳定、长寿命的固体 SiC 加热元件）
不同尺寸的样品托架可选：从 10×10 mm 到 2 英寸
六位靶材操控器，支持原位靶材自动更换系统
靶材托架尺寸：1 英寸或 2 英寸
靶材与样品的全自动或手动传输系统
基准真空度范围：1×10⁻⁸ 到 5×10⁻¹¹ mbar（视泵系统配置而定）
腔体直径：Ø 490 mm，具备多个附加接口
多种泵浦系统组合（前级泵、分子涡轮泵、离子泵和钛升华泵）
真空计及相应配件
配备 Z 轴操控器的石英晶体监控器，用于沉积速率与膜厚监测（可测焦点位置）
Load-lock 腔体可同时传输样品和靶材
快速可靠的线性传输系统，用于从 Load-lock 向过程腔体传输
带遮光装置的观察窗口
集成吹扫管线的水冷系统，用于升温前准备
系统烘烤组件
可调式刚性主框架结构
配备电子单元的 19 英寸控制柜
选项
电动或手动遮光器（跟随样品，可用于斜向层或掩膜沉积）
激光功率传感器
附加存储腔体
内置防护罩
交叉污染防护罩
真空手提箱（传输箱），带有连接至 Load-lock 腔体的接口
附加气体输送系统（例如用于反应性沉积工艺）
残余气体分析仪（RGA）
束流通量监测器（Beam Flux Monitor）
加热观察窗（用于诊断设备）
高温计 / 光学高温测温仪（Pyrometer）
椭偏仪（Ellipsometer）
通过 PLC 控制单元与 Synthesium 软件实现对沉积工艺与整套设备的全流程控制
