用于在 XPS/AES 和 SIMS 应用中对绝缘体或半导体进行电荷中和的低成本电子流枪。
泛光源在两个能量范围内运行，完全由软件控制，还可以提供定制的插入长度（145 – 421 毫米，其他应要求提供）和屏蔽材料，例如 mu 金属、铜。
特征
- 高电子束电流
- 可选择的能量范围
- 稳定排放
- 光束轮廓控制
选项
- 线性移位
- 定制插入长度
- 源屏蔽材料（μ-金属或铜）
产品规格
| 安装法兰 | DN 40CF（不可旋转） |
| 能量范围 | 0.01 – 500 eV |
| 采样电流 | 高达 100 μA |
| 阴极类型 | 钍钨 |
| 盾 | Cu或μ金属 |
| 插入长度 | 分钟 145 毫米（其他应要求提供），外径：33.6 毫米（微米金属），35 毫米（铜） |
| 半高宽 | 取决于工作距离（例如，距离 30 mm 为 10 mm） |
| 典型工作距离 | 20-100 毫米 |
| 烘烤温度 | 高达 250°C |
| 工作压力 | < 5 × 10 -6毫巴 |
