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PREVAC 脉冲激光沉积系统 PLD系统 适用于生长铁磁薄膜、陶瓷氧化物、高温超导材料、金属多层膜
PREVAC 分子束外延系统 MBE系统 RHEED 或 TorrRHEED 系统可选 薄膜的外延生长 单晶薄膜沉积
PREVAC 磁控溅射系统 超高真空MS系统 金属沉积 单层和多层导电膜 半导体金属化屏障层 磁性薄膜 光学镀膜 光掩膜 透明导电膜
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离子束刻蚀系统 透射电子显微镜样品制备 支持无栅/有栅、射频（RF）/直流（DC）离子源
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旋涂机（Spin Coaters）旋转涂布机 高精度薄膜制备 光刻胶涂覆 纳米技术
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波兰PREVAC Ion source IS 40E1离子源
波兰PREVAC EA15-HP5 半球形能量分析仪
波兰PREVAC UV source UVS 40A2紫外光源
波兰PREVAC X-ray source RS 40B1 X射线源
波兰PREVAC Electron source ES 40C1可扫描离子源
波兰PREVAC Mini MBE systems沉积系统,分子束外延系统
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