波兰PREVAC Standard MS systems磁控溅射系统
PREVAC Standard MS systems磁控溅射系统的独立配置与我们的现场验证标准解决方案,使沉积过程简便、高效和可靠。
PREVAC 根据您的需要,我们的标准MS系统提供
dard MS systems磁控溅射系统
PREVAC Standard MS systems磁控了在一个单独的房间的几个喷溅沉积技术的灵活性。每个系统都有一个通用的安装法兰,可以配置为磁控溅射沉积(带有弹射或弹射配置)或任何其他薄膜沉积技术的组合。这就使预VAC标准MS系统成为一个多功能、强大和简单的单位,以满足表面科学涂料领域的大多数需求。
PREVAC Standard MS systems磁控溅射系统特点：
- 独立的HV/UHV系统,包括高质量和高可用性解决方案的溅射过程
- 最适合沉积金属和介电薄膜
- 工艺室标准尺寸:570毫米
- 示例配置 主室的源端口:2个磁强的6xdn100cf端口,或10个dn63cf端口(同时有5个磁强管工作),或3个磁强的5xdn160iosK端口
- 碱压 从10开始 -7 M至超高频
- 二轴机械手 具有稳定、长寿命的加热元件,由固体碳化硅和接收站组成,可达到高达1200℃的高温。
- A 基板持有的范围 尺寸(10×10毫米至6英寸,其他尺寸根据要求)和形状
- Sputter-up 和 Sputter-down可用
- 操作的方式有 DC , RF 和 Pulsed-DC 方式
- Ar 气体自动 通过质量流量控制
- 可能采用现场定性工具,例如:等离子发射监测器(PEM)、椭圆计、反射计、石英平衡器或高温计温度测量系统
- 多个来源提供单一电源 交换网络 ,或有多种供应品 共同作证 加工
- 前门入口 和/或用于快速和方便衬底装载的负载锁定室
- 底部法兰 有可能是 完全访问 或用专用起重车更换
- 19″带有电子单元的橱柜
- Synthesium软件全面控制沉积过程和设备
PREVAC Standard MS systems磁控溅射系统应用：
| 应用程序 | 例子 |
| 单层和多层导体薄膜(用于微电子和半导体器件) | Al, Mo, Mo/Au, Ta, Ta/Au |
| 半导体金属化的屏障层 | TiN, W-Ti |
| 磁学电影 | Fe, Co, Ni, Fe-Al-Si, Co-Nb-Zr, Co-Cr, Fe-Ni-Cr, Fe-Si, Co-Ni-Cr, Co-Ni-Si |
| 光学涂料-金属(反光) | Cr, Al, Ag |
| 光学涂料-介质 | MgO, TiO2, ZrO2 |
| 照相器 | Cr, Mo, W |
| 透明气体/蒸气渗透屏障 | Al2O3 |
| 透明导体 | InO2, SnO2,In-Sn-O (ITO) |
