超高压系统用于超薄磁性薄膜和多层膜的原位实时磁光克尔效应研究。它旨在研究偏振光在磁场作用下通过样品材料的反射。
特性
在150°C下烘烤后，基础压力范围为10-10毫巴
磁极垂直于样品排列
磁极间磁场0.25T
用于旗帜样品架的4轴特高压样品操纵器
样品加热至800°C并用液氮冷却
MOKE室光学系统（调制器、偏振器、光电探测器、激光器）
整个带设备的腔室可以安装在定位台上
真空手提箱，便于样品运输
在一个带有蒸发源的腔室中使用的可能性
与传输系统连接的可能性
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