适用于样品表面高均匀性离子刻蚀的超高真空（UHV）系统。推荐用于表征技术（如透射电子显微镜 TEM）样品制备。
系统特点
- 全电动二维操控器，配备快速操作的自动快门和集成法拉第杯
- 操控器配备高效水冷系统，确保在工艺过程中温度稳定
- 可适配多种盘式样品夹具，支持最大至6英寸样品
- 支持无栅/有栅、射频（RF）/直流（DC）离子源
- 专用软件与人机界面设备，用于控制与监控工艺流程及全部组件
- 内部防护衬里/屏蔽装置
- 底部法兰接口，可用于如电子束蒸发器等设备
- 结构设计便于扩展以适配传输系统
- 前开门设计，便于进入处理腔体
