TPD/TDS 系统
独立的 UHV 装置，用于测量超薄膜的吸附/解吸，能够在较宽的温度范围内进行高精度温度控制。
特征
• 极限压力 1×10-9毫巴
– TPD/TDS腔室，带有快速PTS样品架装载系统
– 专门设计的锥形采样端件
– 在很宽的温度范围内（-170°C至1200°C）
进行高精度的温度控制 – 用于TDS
的计算机控制的数据采集和处理软件 – 用于两个PTS样品架
的负载锁室 – 从负载锁到TPD腔室的可靠和快速的线性传输系统
选项
提供许多升级选项，例如：
– 额外的运动轴和机械手
的全电动化 – 可以通过精确的PLC压力控制，将压力范围从UHV扩展到1个大气压
– 气体计量系统（手动或精确使用PLC控制）
– 溶剂计量系统
– 专用于在腐蚀性环境中
工作的样品架 – 加热和LN2负载锁
的冷却选项 • 用于样品制备
的专用腔室 • 用于不同质量范围的残留气体分析仪
