MOKE 系统
UHV 系统，用于超薄磁膜和多层的原位实时磁光克尔效应研究。
它旨在研究偏振光通过受磁场影响的样品材料的反射。
特征
- 极限压力范围 10-10毫巴在 150 °C 下烘烤后
- 磁极垂直于样品布置
- 磁极之间的磁场 0.25T
- 用于旗形样品架的 4 轴 UHV 样品机械手
- 样品加热至 800 °C & 使用 LN 进行冷却2
- MOKE 腔室的光学系统（调制器、偏振器、光电探测器、激光）
- 整个腔室及设备可安装在定位台上
- 真空手提箱，便于样品运输
- 可以在一个带蒸发源的腔室中使用
- 可以与传输系统连接
