标准 HPPES 系统
PREVAC 标准 HPPES 系统用于 2×10 压力范围内的光电子能谱实验-9mbar – 50 mbar,样品温度可控。独立系统适用于在 UHV 或环境压力条件下分析各种纳米材料。
该系统包括一个分析室和一个负载锁定室,可方便快速地加载样品。它提供完整的 PLC 保护和软件控制,包括机器状态的清晰可视化、数据采集以及所有集成设备、电源和辅助设备的控制。
特征
- 满足以下领域大多数研究需求的标准解决方案:
– XPS / UPS / ARPES / AES / EELS / ISS / IPES / LEIPS 技术 |UHV 条件
– HPXPS / APXPS / APUPS 技术 |环境压力条件 - 实验程序的完全自动化
- 回填配置
- 高压半球形能量分析仪 EA15-HP5 / EA15-HP50 及设备
- 高压、高功率双阳极 X 射线源,带单色器 – AlKα & AgLα,带电源
- 高压、高功率双阳极、非单色 X 射线源 – AlKα 和 MgKα,带电源
- 带电源的 UV 源
- 带电源的泛洪源
- 用于深度剖析或清洁的离子源
- 电动或手动 4-6 轴机械手,带有接收站,温度LHe/LN 系列2最高 1400°C
- 不同的样品架尺寸:从 10×10 mm 到 2 英寸
- 分析室直径 310 毫米
- 极限压力降至 10-9mbar,具体取决于泵的配置
- 泵送系统(基于备用泵,TMP和TSP带有冷冻盾牌)
- 全自动气体加样设置
- 带设备的真空计
- 样品架的 Load Lock 室
- 可靠、快速的线性传输系统,从负载锁到分析室
- 视区 – 观察窗口,带摄像机
- Bakeout 系统
- 系统的可调节刚性主机架
- 带电子单元的 19 英寸机柜
- 由 Spectrium 软件和 PLC 单元完全控制的分析过程和设备
描述
分析室配有 UHV 标准的连接法兰,用于连接当前和未来的设备,包括:
- 带设备的高压半球能量分析仪,
- 带电源的高压 X 射线双阳极单色源,
- 带电源的高压 X 射线双阳极非单色源,
- 带电源的 UV 单色光源,
- 带电源的紫外线源,
- 带电源的泛洪源,
- 带电源的电子源,
- 带电源的离子源,用于深度剖析或清洁,
- 带电源的气簇离子源,
- 样品调节器具有较宽的温度范围(从 LHe/LN2高达 1400°C)、
- 泵组(基于备用泵、TMP、离子泵和TSP,具有大面积LN2裹尸布)、
- 带设备的真空计,
- 用于线性传输系统的入口,例如从负载锁到分析室,
- 加载样品架的 Lock 室,
- viewports – 观察窗口,
- 残余气体分析仪。
最终的设计和功能取决于系统配置。
泵送系统是不同类型泵的组合,例如前级真空泵、离子泵、涡轮泵或具有大面积 LN 的钛升华泵2护罩,根据特定应用需求单独选择,以实现最佳泵送性能。
如果需要,系统的模块化设计允许通过径向分布传输解决方案或传输隧道与任何其他研究平台进行组合和集成。
Spectrium 分析控制软件允许半球形能量分析仪和各种类型的源集成和完美协作,从而实现轻松的配方编写、自动测量控制和广泛的数据记录。允许基于 Tango 开源设备集成新的附加组件。
选项
- 带机械手的 HP 压力传感器
- 全自动混合室和 4 种气体加样设置
- 带电源的 UV 单色光源
- 带电源的电子源
- 带电源的气体簇离子源
- 储藏室
- 径向分布室或传输隧道
- 真空手提箱(运输箱),在负载锁室中带端口
- 残余气体分析仪
- 高温计
技术
- 带机械手的 HP 压力传感器
- 全自动混合室和 4 种气体加样设置
- 带电源的 UV 单色光源
- 带电源的电子源
- 带电源的气体簇离子源
- 储藏室
- 径向分布室或传输隧道
- 真空手提箱(运输箱),在负载锁室中带端口
- 残余气体分析仪
- 高温计