X 射线源 RS 40B1
高强度双阳极 Al/Mg 源，针对 XPS 和高压 XPS 实验进行了优化。阳极、灯丝和光源外壳的设计保证了最大的 X 射线强度和阳极表面之间的极低串扰。专门配置的鼻锥允许最大限度地接触样品。标准源中使用的双阳极允许分离发射两种不同特征的 X 辐射发射线：Mg （1253 eV） 和 Al （1487 eV） – 可根据要求提供其他涂层材料。
技术数据
| 安装法兰 | DN 40CF （不可旋转） |
| 阳极 | Al/Mg（可根据要求提供其他材料） |
| 权力 | 铝 600 瓦 / 毫克 400 瓦 |
| 能量范围 | 7 – 15 千伏 |
| 阴极电流 （I导管) | 最高 2.5 A |
| 发射电流范围 （Ie) | 0 – 50 毫安 |
| 串扰 | < 0.35 % |
| 样品时的磁场 | 低于 0.5 μT |
| 样品温度升高 | < 5 °C |
| 阴极类型 | 钍钨 |
| 水冷 | 要求，压力 3.5 – 5 bar（最大 6 bar），流量≥ 2.5 l/min.，Tmax = 30 °C |
| 插入长度 | 285 毫米;外径： 35 毫米 |
| FWHM （英语） | 取决于工作距离（例如，距离 15 mm 时为 30 mm） |
| 典型工作距离 | 5 – 30 毫米（最佳 15 毫米） |
| 烘烤温度 | 最高 250 °C |
| 工作压力 | < 5 x 10-6毫巴 |
特征
- 高强度双阳极 Al / Mg
- 特殊配置的鼻锥
- 极低的串扰
- 低磁场
- 气密密封外壳
- 非常高效的水冷内壳，以减少作过程中对样品的热损伤
- 内置双高压保护以及密封外壳
- 能够在 mbar 范围内的高压实验中工作（可选）
- 能够在水流受限的完全控制下工作。
选项
- HP 版本，最高 20 mbar
- 倾斜 50 – 100 mm 的线性偏移（适用于配备额外抽气口的 HP X 射线源）
- 式 制冷机
