离子源 IS 40F1
紧凑、易于使用的萃取式离子源，具有电子束聚焦功能。它主要用于样品表面清洁，但聚焦功能提供了更多可能性。例如：它允许在相同的样品距离上覆盖不同的样品区域，或者即使无法使样品源更靠近样品，也可以使用离子源。该源产生 >200 μA/cm2（氩气）的离子电流，具有高斯光束轮廓。离子枪插入长度可根据具体要求进行调整（143 mm – 386 mm，可根据要求提供其他长度）。
技术数据
| 安装法兰 | DN 40CF （不可旋转） |
| 能量范围 | 0.12 keV – 5 keV |
| 电流密度 | > 200 μA/cm2（距离 30 mm） |
| 盾 | 铜、不锈钢（用于反应气体） |
| 阴极类型 | 氧化钇涂层铱丝 |
| 插入长度 | 最小 143 mm，其他可根据要求提供 外径：最大 37 mm |
| FWHM （英语） | 取决于离子能量和工作距离 （例如，距离 60 mm 时为 1.4 mm，距离 150 mm 时为 3 mm） |
| 典型工作距离 | 30 – 250 毫米 |
| 烘烤温度 | 最高 250°C |
| 工作压力 | 10-5– 10-6毫巴 |
特征
- 光束聚焦功能 – 在 30 mm-150 mm 之间的所有样品距离上，光束浓度可能达到 3 mm
- 较远距离处的高光束强度（由于聚焦功能）
- 使用惰性气体 （Ar） 和反应气体 （O作2、 H2，使用寿命缩短的碳氢化合物）
- 高离子束流
- 使用寿命长
- 高稳定性
选项
- 气体加注系统
- 定制插入长度
- 线性偏移
